[發(fā)明專利]一種大口徑光學(xué)元件表面損傷分布圖的生成方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201410016315.5
• 申請(qǐng)日: 2014-01-14
• 公開（公告）號(hào): CN103743750A
• 公開（公告）日: 2014-04-23
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 陶顯;張正濤;張峰;史亞莉;尹英杰;白明然
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 中國科學(xué)院自動(dòng)化研究所
• 主分類號(hào): G01N21/88
• 分類號(hào): G01N21/88
• 代理公司: 中科專利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司 11021
• 代理人: 宋焰琴

1.一種大口徑光學(xué)元件表面損傷分布圖的生成方法，其特征在于，該方法包括以下步驟：

步驟1：對(duì)現(xiàn)有的多張大口徑光學(xué)元件表面損傷子圖像進(jìn)行損傷輪廓提取，獲取所有的損傷輪廓序列；

步驟2：計(jì)算得到的損傷輪廓的特征；

步驟3：基于損傷輪廓的特征對(duì)損傷輪廓進(jìn)行分類標(biāo)記；

步驟4：根據(jù)指定要求和分類標(biāo)記信息，對(duì)損傷輪廓進(jìn)行篩選、處理和顯示，生成大口徑光學(xué)元件表面損傷分布圖。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述步驟1中，利用freeman鏈碼跟蹤的方法來跟蹤得到損傷輪廓信息。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法，其特征在于，所述步驟1進(jìn)一步包括以下步驟：

步驟11，確定大口徑光學(xué)元件表面損傷子圖像中一個(gè)損傷輪廓的起始點(diǎn)；

步驟12，順序掃描起始點(diǎn)方向鏈碼八鄰域的像素，當(dāng)掃描到的像素點(diǎn)值與起始點(diǎn)相同時(shí)，確定該點(diǎn)為下一個(gè)損傷輪廓點(diǎn)，重復(fù)損傷輪廓點(diǎn)的掃描跟蹤過程，并記錄所有損傷輪廓點(diǎn)的鏈碼值和該點(diǎn)的坐標(biāo)值，當(dāng)跟蹤到的損傷輪廓點(diǎn)為起始點(diǎn)時(shí)完成跟蹤，就得到一個(gè)完整的損傷輪廓，并將所有跟蹤到的損傷輪廓點(diǎn)的坐標(biāo)和個(gè)數(shù)保存在相應(yīng)的輪廓序列中。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的方法，其特征在于，所述步驟12中，如果跟蹤的損傷輪廓點(diǎn)處于子圖像的邊界，則通過讀取與邊界相鄰的另外一張子圖像進(jìn)行損傷輪廓點(diǎn)的跟蹤。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述損傷輪廓的特征包括：損傷輪廓的長度和寬度、最小外接矩形的長度和寬度、最小外接圓直徑、主軸角度、圓形度、矩形度、偏心度和/或離心率。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述步驟3中，首先提取損傷輪廓的主要特征，然后利用神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)對(duì)損傷輪廓進(jìn)行分類標(biāo)記。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的方法，其特征在于，通過對(duì)損傷輪廓特征進(jìn)行降維來選取損傷輪廓的主要特征。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述指定要求包括損傷輪廓的大小和縮放倍數(shù)。

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述步驟4還包括根據(jù)所述指定要求對(duì)損傷輪廓進(jìn)行篩選，去掉不符合要求的損傷輪廓的步驟，和/或按照指定縮放倍數(shù)對(duì)單個(gè)損傷輪廓以質(zhì)心為原點(diǎn)進(jìn)行縮放的步驟，和/或按照標(biāo)記好的損傷類別對(duì)損傷輪廓用不同的顏色進(jìn)行顯示的步驟。

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的方法，其特征在于，如果所述步驟4包括按照指定縮放倍數(shù)對(duì)單個(gè)損傷輪廓以質(zhì)心為原點(diǎn)進(jìn)行縮放的步驟，則所使用的縮放原理為：

d2.x=(k*(d1.x-g.x))+newg.x+transform.x；

d2.y=(k*(d1.y-g.y))+newg.y+transform.y；

其中，（d1.x，d1.y）是損傷輪廓縮放前的輪廓點(diǎn)的坐標(biāo)，k為縮放倍數(shù)，（g.x，g.y）為損傷輪廓質(zhì)心的坐標(biāo)，（d2.x，d2.y）是損傷輪廓縮放后的輪廓點(diǎn)的坐標(biāo)，（newg.x，newg.y）為縮放后損傷輪廓質(zhì)心的坐標(biāo)，（transform.x，transform.y）為將損傷輪廓點(diǎn)投影到設(shè)定大小的分布圖中的轉(zhuǎn)換坐標(biāo)。