[發(fā)明專(zhuān)利]多層膜用蝕刻液和蝕刻濃縮液及蝕刻方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201380081154.1
• 申請(qǐng)日: 2013-11-25
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN105765107B
• 公開(kāi)（公告）日: 2017-12-19
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 著能真;小佐野善秀;淵上真一郎
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 松下知識(shí)產(chǎn)權(quán)經(jīng)營(yíng)株式會(huì)社
• 主分類(lèi)號(hào): C23F1/18
• 分類(lèi)號(hào): C23F1/18;C23F1/26
• 代理公司: 北京林達(dá)劉知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙)11277
• 代理人: 劉新宇

1.一種多層膜用蝕刻液，所述多層膜包含銅層和鉬層，其特征在于，其含有過(guò)氧化氫、無(wú)機(jī)酸、酸性有機(jī)酸、中性有機(jī)酸、胺化合物和過(guò)氧化氫分解抑制劑，不含有唑化合物、磷化合物和氟化合物。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的多層膜用蝕刻液，其特征在于，其還含有氨基羧酸系螯合劑。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的多層膜用蝕刻液，其特征在于，所述無(wú)機(jī)酸為硫酸或硝酸中的至少1種。

4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的多層膜用蝕刻液，其特征在于，所述酸性有機(jī)酸包含乙醇酸、天冬氨酸、谷氨酸這3種。

5.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的多層膜用蝕刻液，其特征在于，所述中性有機(jī)酸為甘氨酸和β-丙氨酸中的任一者。

6.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的多層膜用蝕刻液，其特征在于，所述胺化合物為1-氨基-2-丙醇。

7.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的多層膜用蝕刻液，其特征在于，所述過(guò)氧化氫分解抑制劑為苯基脲或低級(jí)醇。

8.根據(jù)權(quán)利要求2所述的多層膜用蝕刻液，其特征在于，所述氨基羧酸系螯合劑任選為乙二胺四乙酸、羥基乙基亞氨基二乙酸、乙二胺-N,N’-二琥珀酸。

9.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的多層膜用蝕刻液，其特征在于，其還含有聚乙二醇。

10.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的多層膜用蝕刻液，其特征在于，其還含有500～7000ppm的銅離子。

11.一種多層膜用蝕刻濃縮液，所述多層膜包含銅層和鉬層，其特征在于，其含有無(wú)機(jī)酸、酸性有機(jī)酸、中性有機(jī)酸、胺化合物、過(guò)氧化氫分解抑制劑和水，不含有唑化合物、磷化合物和氟化合物。

12.一種多層膜的蝕刻方法，所述多層膜包含銅層和鉬層，其特征在于，其包括如下工序：

對(duì)蝕刻濃縮液與水和過(guò)氧化氫進(jìn)行調(diào)合而調(diào)合多層膜用蝕刻液，所述蝕刻濃縮液含有無(wú)機(jī)酸、酸性有機(jī)酸、中性有機(jī)酸、胺化合物、過(guò)氧化氫分解抑制劑和水，不含有唑化合物、磷化合物和氟化合物；以及

使所述多層膜用蝕刻液與被處理基板接觸。

13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的多層膜的蝕刻方法，其特征在于，使所述多層膜用蝕刻液與被處理基板接觸的工序在所述多層膜用蝕刻液的pH為2至5的范圍、液溫為18℃至35℃的條件下進(jìn)行。