[發明專利]具有高親水性及紅外線阻隔特性的涂敷膜及其制備方法

在審

• 申請號: 201380078264.2
• 申請日: 2013-09-17
• 公開（公告）號: CN105452403A
• 公開（公告）日: 2016-03-30
• 發明（設計）人: 金永柱
• 申請（專利權）人: 博思泰克全球株式會社
• 主分類號: C09D183/10
• 分類號: C09D183/10;C09D5/14;C08J5/18
• 代理公司: 北京三友知識產權代理有限公司 11127
• 代理人: 李輝;金玲

1.一種涂敷組合物，其特征在于，包含無規共聚物，上述無規共聚物包含由以下化學式1表示的化合物、由以下化學式2表示的化合物及由以下化學式3表示的化合物，

化學式1：

化學式2：

化學式3：

在上述化學式中，R₁、R₂及R₃表示C1至C18的烷基、C3至C10的環烷基、C6至C15的芳基或具有C2至C12的不飽和烴鍵的烷基。

2.根據權利要求1所述的涂敷組合物，其特征在于，在上述涂敷組合物中添加三官能團烷氧基硅烷或四官能團烷氧基硅烷化合物，以提高與膜或薄片的附著力。

3.根據權利要求2所述的涂敷組合物，其特征在于，上述三官能團烷氧基硅烷為2-(三甲氧基硅基乙基)吡啶、(3-三甲氧基硅基丙基)二乙烯三胺、n-(3-三甲氧基硅基丙基)吡咯、n-三乙氧基硅基丙基奎寧氨基甲酸乙酯、(S)-氮-三乙氧基硅基丙基-氧-薄荷基氨基甲酸鹽、n-(3-三乙氧基硅基丙基)-4-羥基丁酰胺、n-(3-三乙氧基硅基丙基)-4，5-二氫咪唑、三乙氧基硅基丙基氨基甲酸乙酯、2-(三乙氧基硅基乙基)-5-(乙酰氧基)雙環庚烷、三叔丁氧基乙烯基硅烷、乙烯基三異丙氧基硅烷或它們的混合物。

4.根據權利要求2所述的涂敷組合物，其特征在于，上述四官能團烷氧基硅烷為雙(甲基二乙氧基硅基)乙烷、雙(乙基甲氧基硅基)丁烷、雙(丙基甲氧基硅基)丁烷、雙(庚基乙氧基硅基)庚烷、正硅酸乙酯、正硅酸甲酯或它們的混合物。

5.根據權利要求1所述的涂敷組合物，其特征在于，上述涂敷組合物還包含納米無機粒子。

6.根據權利要求5所述的涂敷組合物，其特征在于，上述納米無機粒子為二氧化鈦、三氧化二砷、氧化銦錫、碳納米管、三氧化二鐵、三氧化二釩、二氧化硅、氧化鋅、氧化鋁、氧化銫、氧化鎢、二氧化鉬或它們的混合物。

7.根據權利要求5所述的涂敷組合物，其特征在于，上述納米無機粒子的大小在3～100nm范圍內。

8.一種涂敷膜，其特征在于，涂敷組合物涂敷于塑料膜或塑料片，來同時表達防結露功能和紅外線阻隔功能，上述涂敷組合物包含無規共聚物化合物及兩種以上的無機氧化納米粒子，上述無規共聚物化合物包含由以下化學式1表示的化合物、由以下化學式2表示的化合物及由以下化學式3表示的化合物，

化學式1：

化學式2：

化學式3：

在上述化學式中，R₁、R₂及R₃表示C1至C18的烷基、C3至C10的環烷基、C6至C15的芳基或具有C2至C12的不飽和烴鍵的烷基。

9.根據權利要求8所述的涂敷膜，其特征在于，上述無機氧化納米粒子為選自由二氧化鈦、三氧化二砷、氧化銦錫、碳納米管、三氧化二鐵、三氧化二釩、二氧化硅、氧化鋅、氧化銫、氧化鎢、二氧化鉬及氧化鋁組成的組中的一種以上。

10.根據權利要求8所述的涂敷膜，其特征在于，上述塑料膜或塑料片為全部包含聚乙烯、聚丙烯、聚苯乙烯、聚氯乙烯及聚甲基丙烯酸甲酯的聚烯烴類高分子、作為聚烯烴類高分子的共聚物或縮聚高分子的聚對苯二甲酸乙二醇酯、脂肪族酰胺及芳香族酰胺的聚酰胺類。

11.一種涂敷膜的制備方法，用于制備權利要求8所述的涂敷膜，上述涂敷膜的制備方法的特征在于，利用凹版涂敷法、微型凹版涂敷法、狹縫式涂敷法或唇模式涂敷法以卷對卷的方式進行上述涂敷。

12.根據權利要求1至7中任一項所述的涂敷組合物，其特征在于，上述涂敷組合物能夠涂敷于防玻璃飛散膜、安全防盜膜、防彈膜或適用了數位印刷的膜來生產多功能涂敷膜。