[發(fā)明專(zhuān)利]液浸構(gòu)件和曝光裝置

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201380073183.3
• 申請(qǐng)日: 2013-12-26
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN104995714B
• 公開(kāi)（公告）日: 2018-06-26
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 佐藤真路;小田中健洋
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 株式會(huì)社尼康
• 主分類(lèi)號(hào): H01L21/027
• 分類(lèi)號(hào): H01L21/027
• 代理公司: 北京市金杜律師事務(wù)所 11256
• 代理人: 陳偉;李文嶼

1.一種液浸曝光裝置，所述液浸曝光裝置隔著光學(xué)構(gòu)件的射出面和基板之間的第一液體通過(guò)曝光用光對(duì)所述基板進(jìn)行曝光，所述液浸曝光裝置包括：

具有所述光學(xué)構(gòu)件的投影系統(tǒng)；以及

液浸構(gòu)件，能夠在能夠于所述光學(xué)構(gòu)件的下方移動(dòng)的物體之上形成液浸空間，其中，

該液浸構(gòu)件包括：

第一構(gòu)件，其配置于所述光學(xué)構(gòu)件的周?chē)闹辽僖徊糠郑?/p>

第二構(gòu)件，其能夠與所述物體相對(duì)，且能夠在所述曝光用光的光路的外側(cè)沿與所述光學(xué)構(gòu)件的光軸垂直的規(guī)定方向移動(dòng)；和

保護(hù)部，其保護(hù)所述光學(xué)構(gòu)件，

所述第二構(gòu)件具有以與所述物體相對(duì)的方式配置、能夠回收所述第一液體的流體回收部，

所述物體包含所述基板，

所述第二構(gòu)件以在將所述基板上的多個(gè)照射區(qū)域依次曝光的期間、使所述第二構(gòu)件和所述基板之間的相對(duì)速度變小的方式移動(dòng)，

所述保護(hù)部使所述光學(xué)構(gòu)件承受的來(lái)自所述液浸空間的液體的壓力的波動(dòng)減小。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的液浸曝光裝置，其中，

所述保護(hù)部配置于所述光路的周?chē)闹辽僖徊糠帧?/p>

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的液浸曝光裝置，其中，

所述保護(hù)部具有能夠供所述曝光用光通過(guò)的第一開(kāi)口。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的液浸曝光裝置，其中，

所述第二構(gòu)件具有能夠供所述曝光用光通過(guò)的第二開(kāi)口，

在所述規(guī)定方向上，所述第二開(kāi)口的尺寸大于所述第一開(kāi)口的尺寸。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的液浸曝光裝置，其中，

所述第二構(gòu)件的至少一部分能夠在所述保護(hù)部之下移動(dòng)。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的液浸曝光裝置，其中，

所述保護(hù)部在所述光路的外側(cè)配置于所述光學(xué)構(gòu)件和所述第二構(gòu)件之間。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的液浸曝光裝置，其中，

所述保護(hù)部以使在所述第二構(gòu)件的移動(dòng)期間所述光學(xué)構(gòu)件和所述第二構(gòu)件不相對(duì)的方式配置于所述光學(xué)構(gòu)件和所述第二構(gòu)件之間。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的液浸曝光裝置，其中，

所述第一構(gòu)件具有所述保護(hù)部。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的液浸曝光裝置，其中，

所述保護(hù)部包括所述第一構(gòu)件中離所述光路最近的第一部位。

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的液浸曝光裝置，其中，

所述第一部位是所述保護(hù)部的最下部。

11.根據(jù)權(quán)利要求9所述的液浸曝光裝置，其中，

所述第二構(gòu)件包括離所述光路最近的第二部位；

所述第二部位始終配置于所述第一部位的相對(duì)所述光路而言的外側(cè)。

12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的液浸曝光裝置，其中，

以使所述第二部位始終配置于所述第一部位的相對(duì)所述光路而言的外側(cè)的方式確定所述第二構(gòu)件的可動(dòng)范圍。

13.根據(jù)權(quán)利要求11所述的液浸曝光裝置，其中，

所述第一構(gòu)件具有能夠供所述曝光用光通過(guò)的第一開(kāi)口，

所述第二構(gòu)件具有能夠供所述曝光用光通過(guò)的第二開(kāi)口，

所述第一部位限定所述第一開(kāi)口的周?chē)闹辽僖徊糠郑?/p>

所述第二部位限定所述第二開(kāi)口的周?chē)闹辽僖徊糠帧?/p>

14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的液浸曝光裝置，其中，

在所述規(guī)定方向上，所述第二開(kāi)口的尺寸大于所述第一開(kāi)口的尺寸。

15.根據(jù)權(quán)利要求9所述的液浸曝光裝置，其中，

所述第一部位隔著間隙配置于所述射出面的下方。