[發(fā)明專利]用于燃料電池的流體流動板有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201380071444.8 | 申請日: | 2013-12-18 |
| 公開(公告)號: | CN104995777B | 公開(公告)日: | 2018-09-07 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 彼得·戴維·胡德;保爾·萊納德·阿德科克 | 申請(專利權(quán))人: | 智慧能量有限公司 |
| 主分類號: | H01M8/0258 | 分類號: | H01M8/0258;H01M8/0267;H01M8/0206;H01M8/10 |
| 代理公司: | 北京紀(jì)凱知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11245 | 代理人: | 趙蓉民 |
| 地址: | 英國萊*** | 國省代碼: | 英國;GB |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 用于 燃料電池 流體 流動 | ||
1.一種用于電化學(xué)組件的流體流動板,所述流體流動板包括:
多個第一流體流動通道,其延伸穿過所述流動板的第一面部以便界定所述流體流動板的第一流體流場;
多個第二流體流動通道,其延伸穿過所述流動板的第二面部以便界定所述流體流動板的第二流體流場,所述多個第一流體流動通道和第二流體流動通道都占據(jù)共同通道層;
第一流體輸送點的陣列,其沿著所述第一流體流場的邊緣安置,以用于連通流體進(jìn)入或離開所述第一流體流動通道;
第二流體輸送點的陣列,其沿著所述第二流體流場的邊緣安置,以用于連通流體進(jìn)入或離開所述第二流體流動通道;
第一流體槽道,其具有由第一流體輸送點的所述陣列限定的第一周邊邊緣部分,并且具有形成所述流體流動板的第一流體連通邊緣的第二周邊邊緣部分,
第二流體槽道,其具有由第二流體輸送點的所述陣列限定的第一周邊邊緣部分,并且具有形成所述流體流動板的第二流體連通邊緣的第二周邊邊緣部分,
其中所述第一流體槽道占據(jù)第一槽道平面,并且所述第二流體槽道占據(jù)不同于所述第一槽道平面的第二槽道平面,并且其中所述第一槽道平面和所述第二槽道平面都安置在所述共同通道層內(nèi);
其中所述第一流體連通邊緣和所述第二流體連通邊緣中的至少一個包括堞形結(jié)構(gòu);并且
其中在至少一個堞形結(jié)構(gòu)和至少一個流動通道之間的空間中的是突出部陣列。
2.如權(quán)利要求1所述的流體流動板,所述流體流動板還包括:
多個第三流體流動通道,其在所述第一面部與所述第二面部之間延伸穿過所述流體流動板以便界定所述流體流動板的第三流體流場,所述第三流體流動通道占據(jù)所述共同通道層;
第三流體輸送點的陣列,其沿著所述第三流體流場的邊緣安置,以用于連通流體進(jìn)入或離開所述第三流體流動通道;
第三流體槽道,其具有由第三流體輸送點的所述陣列限定的第一周邊邊緣部分,并且具有形成所述流體流動板的第三流體連通邊緣的第二周邊邊緣部分;
其中所述第三流體槽道占據(jù)不同于所述第一槽道平面和所述第二槽道平面的第三槽道平面,并且其中所述第三槽道平面也安置在所述共同通道層內(nèi);并且,
其中所述第一流體連通邊緣、第二流體連通邊緣和第三流體連通邊緣中的至少一個包括堞形結(jié)構(gòu)。
3.如權(quán)利要求1所述的流體流動板,其中所述第一流體流動通道包括陽極流體流動通道,所述第二流體流動通道包括陰極流體流動通道,所述第一面部是陽極面部,所述第二面部是陰極面部;所述第一流體槽道是陽極槽道,并且所述第二流體槽道是陰極槽道。
4.如權(quán)利要求2所述的流體流動板,其中所述第一流體流動通道包括陽極流體流動通道,所述第二流體流動通道包括陰極流體流動通道,所述第一面部是陽極面部,所述第二面部是陰極面部;所述第一流體槽道是陽極槽道,并且所述第二流體槽道是陰極槽道。
5.如權(quán)利要求4所述的流體流動板,其中所述第三流體流動通道包括冷卻劑流體流動通道,并且所述第三流體槽道是冷卻劑槽道。
6.如權(quán)利要求1所述的流體流動板,其中所述第一流體流場的所述邊緣和所述第二流體流場的所述邊緣被疊加。
7.如權(quán)利要求2所述的流體流動板,其中所述第一流體流場的所述邊緣和所述第二流體流場的所述邊緣被疊加。
8.如權(quán)利要求7所述的流體流動板,其中所述第三流體流場的所述邊緣和所述第一流體流場的所述邊緣被疊加。
9.如權(quán)利要求1所述的流體流動板,其中所述第一流體連通邊緣形成延伸穿過所述共同通道層的第一流體通口的部分,并且所述第二流體連通邊緣形成延伸穿過所述共同通道層的第二流體通口的部分。
10.如權(quán)利要求2所述的流體流動板,其中所述第一流體連通邊緣形成延伸穿過所述共同通道層的第一流體通口的部分,并且所述第二流體連通邊緣形成延伸穿過所述共同通道層的第二流體通口的部分。
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