[發(fā)明專利]減反射玻璃制品及其制備和使用方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201380071214.1
• 申請日: 2013-11-26
• 公開（公告）號: CN105143134B
• 公開（公告）日: 2018-07-27
• 發(fā)明（設(shè)計）人: D·V·庫克森考弗
• 申請（專利權(quán)）人: 康寧股份有限公司
• 主分類號: C03C17/00
• 分類號: C03C17/00
• 代理公司: 上海專利商標事務(wù)所有限公司 31100
• 代理人: 楊昀;沈端

1.一種減反射玻璃制品，其包含：

玻璃基材；以及

整合的減反射部件，其包含多個亞波長尺寸的凸面構(gòu)件，所述凸面構(gòu)件在所述玻璃基材表面的至少一部分上以單層的形式排列并且與所述玻璃基材表面的至少一部分熔合，

其中，在450納米至750納米的波長下測量時，所述減反射玻璃制品的鏡面反射率小于或等于單獨所述玻璃基材的85％，并且通過熱液處理將所述亞波長尺寸的凸面構(gòu)件與所述玻璃基材的表面熔合。

2.如權(quán)利要求1所述的減反射玻璃制品，所述多個亞波長尺寸的凸面構(gòu)件包括球形的氧化物材料納米顆粒。

3.如權(quán)利要求1或2所述的減反射玻璃制品，所述玻璃基材包含從所述玻璃基材的表面延伸至所述玻璃基材內(nèi)的表面部分，所述表面部分具有比所述玻璃基材的剩余部分高的OH濃度。

4.如權(quán)利要求1或2所述的減反射玻璃制品，所述減反射玻璃制品包括：家用電器表面、車輛零部件表面、電子裝置的非觸敏部件、或者電子裝置的蓋板或觸敏顯示屏的一部分。

5.如權(quán)利要求1或2所述的減反射玻璃制品，其還包含以下一種或多種：

450納米至750納米波長的光譜上的小于4％的鏡面反射率；

在所述玻璃基材表面上放置包含油的污染物后，450納米至750納米波長的光譜上的小于4％的鏡面反射率；

450納米至750納米波長的光譜上至少94％的光學(xué)透射率；以及

根據(jù)ASTM方法D1003測量時，小于或等于1％的霧度。

6.如權(quán)利要求1或2所述的減反射玻璃制品，其中，根據(jù)ASTM測試方法D3363-05測量時，所述減反射玻璃制品的耐刮擦性為至少6H。

7.如權(quán)利要求1或2所述的減反射玻璃制品，其中，相對于使用摩擦計第一次擦拭前測得的所述減反射玻璃制品的鏡面反射率的初始測量值，使用摩擦計擦拭100次后，所述減反射玻璃制品的鏡面反射率的變化小于5％，且使用摩擦計擦拭5000次后，所述減反射玻璃制品的鏡面反射率的變化小于10％。

8.一種制備減反射玻璃制品的方法，所述方法包括：

通過設(shè)置以單層形式排列的多個亞波長尺寸的凸面構(gòu)件，在玻璃基材表面的至少一部分上形成整合的減反射部件；以及

熱液處理其上設(shè)置有多個凸面構(gòu)件的玻璃基材以使所述多個凸面構(gòu)件與所述玻璃基材熔合。

9.如權(quán)利要求8所述的方法，其中，熱液處理所述其上設(shè)置有多個凸面構(gòu)件的玻璃基材的步驟包括：

將所述其上設(shè)置有多個凸面構(gòu)件的玻璃基材放置在容器或腔體中；以及

使所述其上設(shè)置有多個凸面構(gòu)件的玻璃基材暴露于升高的溫度、相對濕度和/或壓力中的至少一種中。

10.一種減反射玻璃制品，其包含：

玻璃基材；

整合的減反射部件，其包含多個亞波長尺寸的凸面構(gòu)件；和

玻璃基材與整合的減反射部件之間的非粘性中間層；

所述凸面構(gòu)件在所述非粘性中間層的至少一部分上以單層的形式排列并且與所述非粘性中間層的至少一部分熔合，并且，在450納米至750納米的波長下測量時，所述減反射玻璃制品的鏡面反射率小于或等于單獨所述玻璃基材的85％，并且通過熱液處理將所述亞波長尺寸的凸面構(gòu)件與所述非粘性中間層的表面熔合。