[發明專利]連續式等離子體化學氣相沉積裝置無效
| 申請號： | 201380068470.5 | 申請日： | 2013-12-12 |
| 公開（公告）號： | CN104903491A | 公開（公告）日： | 2015-09-09 |
| 發明（設計）人： | 玉垣浩;芳賀潤二 | 申請（專利權）人： | 株式會社神戶制鋼所 |
| 主分類號： | C23C16/458 | 分類號： | C23C16/458;C23C16/44;C23C16/503 |
| 代理公司： | 中國專利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 陳國慧;李婷 |
| 地址： | 日本兵庫*** | 國省代碼： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 連續 等離子體 化學 沉積 裝置 | ||
1.?一種連續式等離子體化學氣相沉積裝置，包括成膜室和與上述成膜室分開的隔室，在上述成膜室與分開的隔室之間輸送基材，并在上述基材上成膜，其特征在于，
上述成膜室包括真空腔室、將上述真空腔室內的空氣排出的泵、向上述真空腔室內供給原料氣體的氣體供給部、和使供給到上述真空腔室內的原料氣體產生等離子體的交流型的等離子體產生電源；
在上述成膜室中，上述基材被分為兩組，屬于與上述等離子體產生電源的一極連接的第1組和與上述等離子體產生電源的另一極連接的第2組中的某一組。
2.?如權利要求1所述的等離子體化學氣相沉積裝置，其特征在于，
上述兩組基材是對置配置的平板狀的基材。
3.?如權利要求1所述的等離子體化學氣相沉積裝置，其特征在于，
上述兩組基材是固定在交替地隔開間隔配置的保持器上的平板狀的基材、或交替地隔開間隔配置的平板狀的基材，
上述兩組基材或基材保持器交替地屬于不同的組。
4.?如權利要求1所述的等離子體化學氣相沉積裝置，其特征在于，
上述兩組基材搭載于在成膜過程中分別旋轉的基材保持器上。
5.?如權利要求1所述的等離子體化學氣相沉積裝置，其特征在于，
上述兩組基材搭載于在成膜過程中分別自公轉的基材保持器上。
6.?如權利要求1所述的等離子體化學氣相沉積裝置，其特征在于，
上述兩組基材搭載于自公轉的基材保持器上，屬于第1組的自轉工作臺的數量和屬于第2組的自轉工作臺相互是相同數量，并且繞上述公轉軸一個個地交替地排列配備。
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C23C 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面擴散法，化學轉化或置換法的金屬材料表面處理；真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態化合物分解且表面材料的反應產物不留存于鍍層中的化學鍍覆，例如化學氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上，例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機材料為特征的
