[發明專利]制備包括層層自組裝層的多層光學膜的方法以及制品在審
| 申請號: | 201380066919.4 | 申請日: | 2013-12-04 |
| 公開(公告)號: | CN104871035A | 公開(公告)日: | 2015-08-26 |
| 發明(設計)人: | D·J·施密特;J·R·米勒;T·J·赫布林克;M·B·奧尼爾 | 申請(專利權)人: | 3M創新有限公司 |
| 主分類號: | G02B1/00 | 分類號: | G02B1/00;G02B5/08;B05D1/18;B05D1/20;G02B5/28 |
| 代理公司: | 北京市金杜律師事務所 11256 | 代理人: | 陳長會;馬慧 |
| 地址: | 美國明*** | 國省代碼: | 美國;US |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 制備 包括 層層 組裝 多層 光學 方法 以及 制品 | ||
1.一種制備多層光學膜的方法,包括:
提供包括低折射率層和高折射率層的多個交替聚合物層的多層光學膜,其中所述多個交替聚合物層反射紫外光至近紅外光范圍內的電磁輻射的至少一個帶寬;
將通過納米粒子、聚合物以及它們的組合的層層自組裝沉積的多個層設置在所述多層光學膜上。
2.根據權利要求1所述的方法,其中所述多層光學膜的高折射率層包含雙折射熱塑性聚合物。
3.根據權利要求1或2所述的方法,其中通過層層自組裝沉積的所述多個層包括低折射率雙層和高折射率雙層的交替疊堆。
4.根據權利要求3所述的方法,其中所述多個雙層反射紫外光至近紅外光范圍內的電磁輻射的至少一個帶寬。
5.根據權利要求4所述的方法,其中所述多個雙層反射與所述多層光學膜相同的電磁輻射的帶寬的至少一部分。
6.根據權利要求1-5中任一項所述的方法,其中所述多個雙層反射與所述多層光學膜不同的電磁輻射的帶寬的至少一部分。
7.根據權利要求1-6所述的方法,其中所述多層光學膜為紫外光反射鏡、藍光反射鏡、可見光反射鏡、紅外光反射鏡、或它們的組合。
8.根據權利要求1-7所述的方法,其中通過層層自組裝沉積的所述多個層為紫外光反射鏡、藍光反射鏡、可見光反射鏡、紅外光反射鏡、或它們的組合。
9.根據權利要求5、6或8所述的方法,其中包括所述多個雙層的所述多層光學膜具有僅比所述多層光學膜高的反射率。
10.根據權利要求1-9中任一項所述的方法,其中通過層層自組裝沉積的所述多個層通過沉積包含至少一種高分子電解質和無機氧化物納米粒子的水基組合物的交替層來形成。
11.根據權利要求3-10中任一項所述的方法,其中所述低折射率雙層包含二氧化硅、氧化鋁、它們的混合金屬氧化物、以及它們的混合物。
12.根據權利要求3-11中任一項所述的方法,其中所述高折射率雙層包含二氧化鈦、氧化鋯、氧化鋁、氧化銻、二氧化鈰、氧化鋅、氧化鑭、氧化鉭、它們的混合金屬氧化物、以及它們的混合物。
13.根據權利要求1-12中任一項所述的方法,其中通過層層自組裝沉積的所述多個層包含至少30重量%的無機氧化物納米粒子。
14.根據權利要求11-13中任一項所述的方法,其中所述多層光學膜包含0至5重量%的無機氧化物納米粒子。
15.根據權利要求1-14中任一項所述的方法,其中所述多層光學膜的高折射率層和低折射率層包括交替的1/4波長層。
16.根據權利要求3-15中任一項所述的方法,其中所述多個雙層包括交替的1/4波長疊堆。
17.根據權利要求1所述的方法,其中通過層層自組裝沉積的所述多個層將所述多層光學膜在550nm下的表面反射降低至小于2%。
18.根據權利要求1所述的方法,其中通過層層自組裝沉積的所述多個層包括高分子電解質和二氧化硅的交替層。
19.根據權利要求18所述的方法,其中通過層層自組裝沉積的所述多個層提供耐用表涂層。
20.一種多層光學膜,包括根據權利要求1-19中任一項所述的通過納米粒子、聚合物以及它們的組合的層層自組裝沉積的多個層。
21.一種多層光學膜,包括:
多層光學膜,所述多層光學膜包括低折射率層和高折射率層的多個交替聚合物層,其中所述多個交替聚合物材料反射紫外光至近紅外光范圍內的電磁輻射的至少一個帶寬;
設置在所述多層光學膜上的多個層,其中所述多個層包含層層自組裝的納米粒子、聚合物以及它們的組合。
22.根據權利要求21所述的多層光學膜,其中所述多層光學膜的高折射率層包含雙折射熱塑性聚合物。
23.根據權利要求21或22所述的多層光學膜,其中通過層層自組裝沉積的所述多個層包括低折射率雙層和高折射率雙層的交替疊堆。
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