[發明專利]用于光刻設備的襯底支撐件和光刻設備

在審

• 申請號: 201380065901.2
• 申請日: 2013-11-26
• 公開（公告）號: CN104937494A
• 公開（公告）日: 2015-09-23
• 發明（設計）人: E·阿勒馬克;A·考沃埃特斯;R·拉法爾;N·坦凱特;C·路吉騰;H-K·尼恩惠斯
• 申請（專利權）人: ASML荷蘭有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 中科專利商標代理有限責任公司 11021
• 代理人: 吳敬蓮

1.一種襯底支撐件，所述襯底支撐件用于將具有在EUV范圍內的波長或更小波長的輻射束投影到襯底的目標部分上的類型的設備，所述襯底支撐件包括：

襯底臺，構造成保持襯底；

支撐塊，配置成支撐所述襯底臺；

至少一個傳感器單元；和

蓋板，被設置成圍繞所述襯底臺和所述至少一個傳感器單元，所述蓋板定位和配置成導致對于在所述襯底臺上的氣流的阻力增大。

2.根據權利要求1所述的襯底支撐件，其中所述蓋板的頂表面、所述至少一個傳感器單元的頂表面和在被安裝在所述襯底臺上時的襯底的頂表面都大體處于同一高度水平。

3.根據權利要求1所述的襯底支撐件，其中所述至少一個傳感器單元中的一個或更多個由所述支撐塊支撐。

4.根據權利要求1所述的襯底支撐件，其中所述至少一個傳感器單元中的一個或更多個安裝在所述蓋板內。

5.根據權利要求1所述的襯底支撐件，其中所述蓋板包括在其頂表面上用于襯底臺和所述至少一個傳感器單元的開口。

6.根據權利要求1所述的襯底支撐件，其中所述蓋板包括具有圍繞所述至少一個傳感器單元的升高的或臺階狀的輪廓的邊緣。

7.根據權利要求1所述的襯底支撐件，其中所述至少一個傳感器單元包括定位傳感器單元、對準傳感器單元、校準傳感器單元、溫度傳感器單元、壓力傳感器單元、熱通量傳感器單元和/或污染傳感器單元中的一個或更多個。

8.根據權利要求1所述的襯底支撐件，其中所述蓋板與所述支撐塊是分離的并且由所述支撐塊支撐。

9.根據權利要求1所述的襯底支撐件，其中所述蓋板和支撐塊包括一體單元。

10.根據權利要求1所述的襯底支撐件，其中所述蓋板包括調節元件。

11.根據權利要求10所述的襯底支撐件，其中所述調節元件包括用于承載熱交換流體的一個或更多的導管。

12.根據權利要求1所述的襯底支撐件，其中所述蓋板包括配置成建立在所述蓋板正上方的區域與在所述蓋板內或下面的一個或更多的導管之間的氣流的裝置。

13.根據權利要求12所述的襯底支撐件，其中所述氣流能夠操作以將氣體吹送通過在所述蓋板和安裝在所述襯底臺上的襯底之間的間隙或通過在所述蓋板和所述至少一個傳感器單元之間的間隙，以用作緩沖件。

14.根據權利要求12所述的襯底支撐件，其中所述氣流能夠操作以將氣體從所述蓋板正上方的區域、經由在所述蓋板和安裝在所述襯底臺上的襯底之間的間隙和/或在所述蓋板和所述至少一個傳感器單元之間的間隙抽取到所述一個或更多的導管中。

15.根據權利要求1所述的襯底支撐件，其中所述蓋板的頂表面包括表面微結構。

16.根據權利要求15所述的襯底支撐件，其中所述表面微結構包括帶溝槽的表面。

17.根據權利要求1所述的襯底支撐件，其中所述蓋板的頂表面包括一個或更多的宏觀尺寸的結構。

18.根據權利要求1所述的襯底支撐件，還包括：冷卻元件，位于所述襯底支撐件的上方且能夠操作以將直接的負熱負載賦予由所述襯底支撐件支撐的襯底上。

19.根據權利要求18所述的襯底支撐件，其中所述冷卻元件被定位用于至少部分地限制在所述冷卻元件和襯底表面之間的氣體，所述氣體用作從襯底至冷卻元件的熱傳遞的介質。

20.根據權利要求18所述的襯底支撐件，其中所述冷卻元件包括硅盤。

21.根據權利要求18所述的襯底支撐件，包括一個或更多的可切換的加熱源，所述加熱源能夠操作以提供在由所述襯底支撐件所支撐的襯底上的局部的可切換的熱負載。

22.根據權利要求21所述的襯底支撐件，其中所述加熱源位于所述冷卻元件的上方，使得由所述加熱源發射的輻射透射通過所述冷卻元件。

23.根據權利要求21所述的襯底支撐件，其中所述加熱源包括發光二極管器件，所述發光二極管器件能夠操作以發射用于局部加熱所述襯底的束。