[發(fā)明專利]用于還原鋁的電解槽中的壁的側(cè)壁磚有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201380065564.7 | 申請日: | 2013-12-13 |
| 公開(公告)號: | CN104854264B | 公開(公告)日: | 2018-07-31 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 弗蘭克·希爾特曼;詹努茲·圖馬拉;加贊法爾·阿巴斯;托馬斯·弗羅梅爾特;賴納·施米特;馬庫斯·普費弗 | 申請(專利權(quán))人: | 西格里CFLCE有限責(zé)任公司 |
| 主分類號: | C25C3/08 | 分類號: | C25C3/08;C25C7/00;C25C3/16 |
| 代理公司: | 中原信達知識產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 11219 | 代理人: | 王潛;郭國清 |
| 地址: | 德國*** | 國省代碼: | 德國;DE |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 用于 還原 電解槽 中的 側(cè)壁 | ||
1.一種用于電解槽中的壁的側(cè)壁磚,
其中
所述側(cè)壁磚(28)為層狀體,
所述層狀體包含具有較低熱導(dǎo)率的層(36)和具有較高熱導(dǎo)率的層(38),在920℃~1000℃的溫度下測得的較低熱導(dǎo)率與較高熱導(dǎo)率之間的差至少為5W/m·K,
其特征在于
所述層(36,38)中的至少一個摻雜有硅、氧化的陶瓷材料或非氧化的材料。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的側(cè)壁磚,
其特征在于
所述層狀體具有交替順序的具有較低熱導(dǎo)率的層(36)和具有較高熱導(dǎo)率的層(38)。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的側(cè)壁磚,
其特征在于
所述層狀體的一個外層為具有較低熱導(dǎo)率的層(36)并且另一個外層為具有較高熱導(dǎo)率的層(38)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1~3中的任一項所述的側(cè)壁磚,
其特征在于
所述層(36,38)具有塊形狀,并且經(jīng)由接觸面連接在一起。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的側(cè)壁磚,
其特征在于
所述層(36,38)經(jīng)由其底面(40,42)或經(jīng)由其側(cè)面(44,46)連接在一起。
6.根據(jù)權(quán)利要求1~3中的任一項所述的側(cè)壁磚,
其特征在于
所述層(36,38)中的一個具有塊形狀,并且其它層(36,38)具有多邊形形狀,所述兩個層經(jīng)由接觸面連接在一起。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的側(cè)壁磚,
其特征在于
具有多邊形形狀的所述層(36,38)為具有三個至六個角的多邊形。
8.根據(jù)權(quán)利要求5所述的側(cè)壁磚,
其特征在于,
當(dāng)所述層(36,38)經(jīng)由其底面(40,42)連接在一起時,所述層狀體的厚度為50mm~700mm。
9.根據(jù)權(quán)利要求5所述的側(cè)壁磚,
其特征在于,
當(dāng)所述層(36,38)經(jīng)由其側(cè)面(44,46)連接在一起時,所述層的高度為150mm~450mm。
10.根據(jù)權(quán)利要求1~3中的任一項所述的側(cè)壁磚,
其特征在于
至少一個層(36,38)由選自碳或碳化硅或其任意混合物的材料構(gòu)成。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的側(cè)壁磚,
其特征在于
所述碳選自石墨碳或石墨化的碳。
12.根據(jù)權(quán)利要求1~3中的任一項所述的側(cè)壁磚,
其特征在于
至少一個層(36,38)含有選自碳或碳化硅或其任意混合物的材料。
13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的側(cè)壁磚,
其特征在于
所述碳選自石墨碳或石墨化的碳。
14.根據(jù)權(quán)利要求1~3中的任一項所述的側(cè)壁磚,
其特征在于
較低熱導(dǎo)率與較高熱導(dǎo)率之間的差為5W/m·K~80W/m·K。
15.一種用于制造根據(jù)權(quán)利要求1~14中的任一項所述的側(cè)壁磚(28)的方法,所述方法包括以下步驟:
a)提供用于具有較低熱導(dǎo)率的層(36)的混合物,用于具有較高熱導(dǎo)率的層(38)的混合物,和任選地一種或多種用于至少一個其它層的混合物,
b)從根據(jù)步驟a)的混合物形成具有層結(jié)構(gòu)的生坯塊,
c)在1100℃至1400℃的溫度下燒制根據(jù)步驟b)的生坯塊。
16.根據(jù)權(quán)利要求15所述的方法,
其特征在于
根據(jù)步驟b)的形成包括振動成型。
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