[發(fā)明專利]用于具有優(yōu)化系統(tǒng)參數(shù)的光學(xué)計(jì)量的設(shè)備及方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201380063380.7
• 申請日: 2013-11-08
• 公開（公告）號: CN104838251B
• 公開（公告）日: 2019-04-12
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 安德烈·謝卡格羅瓦
• 申請（專利權(quán)）人: 科磊股份有限公司
• 主分類號: G01N21/17
• 分類號: G01N21/17;G01B11/00;H01L21/66
• 代理公司: 北京律盟知識產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 11287
• 代理人: 張世俊

1.一種用于具有優(yōu)化系統(tǒng)參數(shù)的光學(xué)計(jì)量的方法，其包括:

以來自可操作以產(chǎn)生具有入射極角的范圍、入射方位角的范圍、偏振狀態(tài)的范圍及照明波長的范圍中的任何兩者以上的可用照明光的照明子系統(tǒng)的照明光照明樣本；

將所述可用照明光約束到入射極角的所述范圍、入射方位角的所述范圍、偏振狀態(tài)的所述范圍及照明波長的所述范圍中的所述兩者以上中的任一者的子集，以最小化測量盒大小并實(shí)現(xiàn)相對于利用所述可用照明光本來能實(shí)現(xiàn)的較小的測量盒大?。?/p>

產(chǎn)生指示所述樣本對所述照明光的響應(yīng)的多個輸出信號；及

至少部分基于所述多個輸出信號確定結(jié)構(gòu)參數(shù)的估計(jì)；

其中所述約束所述可用照明光是至少部分基于對歸因于幾何效應(yīng)、光衍射效應(yīng)、像差效應(yīng)及所述照明光與所述樣本之間的互動中的任一者對測量盒大小的影響的分析。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其進(jìn)一步包括:

約束與不同測量技術(shù)相關(guān)的可用測量信號的集合。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中每一輸出信號指示以不同入射角從所述樣本衍射的一定量的光。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的方法，其中所述約束所述照明光涉及確定與最小化所述測量盒大小的每一不同入射角相關(guān)的照明波長的子集。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的方法，其中所述不同入射角范圍在55度與75度之間，且其中所述照明波長的所述范圍在100納米與2000納米之間。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中所述約束所述可用照明光以最小化所述測量盒大小包括:

確定所述照明光與所述樣本之間的相互作用的電磁仿真引擎；及

選擇入射極角的所述范圍、入射方位角的所述范圍、偏振狀態(tài)的所述范圍及照明波長的所述范圍中的所述兩者以上中的任一者的所述子集，其最小化由所述電磁仿真引擎預(yù)測的歸因于所述照明光與目標(biāo)結(jié)構(gòu)之間的所述互動的所述測量盒大小的增大。

7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的方法，其中與大于70度的入射角相關(guān)的照明波長的所述子集在190納米與650納米之間，且其中與小于70度的入射角相關(guān)的照明波長的所述子集在190納米與800納米之間。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中所述約束所述可用照明光以最小化所述測量盒大小包括:

用所述可用照明光執(zhí)行所述樣本的多個測量；

確定多個測量盒大小，每一個測量盒與所述多個測量盒中的每一者相關(guān)聯(lián)；及

選擇入射極角的所述范圍、入射方位角的所述范圍、偏振狀態(tài)的所述范圍及照明波長的所述范圍中的所述兩者以上中的任一者的所述子集，其最小化基于所述確定的測量盒大小的所述測量盒大小的增大。

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中所述照明光的所述約束涉及以下任一者:將遞送到所述樣本的所述照明光物理地限制到所述子集；將經(jīng)散射光的收集限制到與所述子集相關(guān)的經(jīng)散射光；及只選擇與用于測量分析的所述子集相關(guān)的所述輸出信號的部分。

10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中所述較小的測量盒大小在任何方向小于30微米。

11.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中所述較小的測量盒大小在任何方向小于10微米。