[發(fā)明專(zhuān)利]光學(xué)部件及其制造方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201380061462.8 | 申請(qǐng)日: | 2013-11-22 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN104813199B | 公開(kāi)(公告)日: | 2016-10-26 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 中山寬晴;槇野憲治 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 佳能株式會(huì)社 |
| 主分類(lèi)號(hào): | G02B1/118 | 分類(lèi)號(hào): | G02B1/118;G02B1/04;C08L33/24 |
| 代理公司: | 中國(guó)國(guó)際貿(mào)易促進(jìn)委員會(huì)專(zhuān)利商標(biāo)事務(wù)所 11038 | 代理人: | 石寶忠 |
| 地址: | 日本*** | 國(guó)省代碼: | 日本;JP |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 光學(xué) 部件 及其 制造 方法 | ||
1.光學(xué)部件,其中在基材表面上形成層疊體,
該層疊體在表面上具有多孔層或者具有凹凸結(jié)構(gòu)的層;并且
在該多孔層或者該具有凹凸結(jié)構(gòu)的層與該基材之間具有聚合物層,該聚合物層具有10nm-150nm的層厚度并且含有馬來(lái)酰亞胺共聚物。
2.根據(jù)權(quán)利要求1的光學(xué)部件,其中該馬來(lái)酰亞胺共聚物具有0.5-0.97的馬來(lái)酰亞胺共聚比率。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2的光學(xué)部件,其中該馬來(lái)酰亞胺共聚物含有具有由下述通式(1)表示的馬來(lái)酰亞胺單元和由下述通式(2)表示的(甲基)丙烯酸酯單元的共聚物:
其中,式1中,R1為未取代或者用苯基、羥基、烷氧基、乙酰氧基、環(huán)狀醚基、氨基、烷氧基甲硅烷基或鹵素原子取代的具有1-8個(gè)碳原子的直鏈、支化或環(huán)狀的烷基或烯基,m為1以上的整數(shù);
其中,式2中,R2為氫或甲基并且R3為未取代或者用羥基、烷氧基、乙酰氧基、環(huán)狀醚基、氨基、烷氧基甲硅烷基或鹵素原子取代的具有1-8個(gè)碳原子的直鏈、支化或環(huán)狀的烷基或烯基,m為1以上的整數(shù)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1-3的任一項(xiàng)的光學(xué)部件,其中該聚合物層具有等于或大于1.43且小于1.5的折射率。
5.根據(jù)權(quán)利要求1-4的任一項(xiàng)的光學(xué)部件,其中將該基材的折射率設(shè)為nb,將該聚合物層的折射率設(shè)為ni,并且將該多孔層的折射率設(shè)為ns時(shí),該光學(xué)部件滿(mǎn)足nb>ni>ns。
6.根據(jù)權(quán)利要求1-5的任一項(xiàng)的光學(xué)部件,其中該具有凹凸結(jié)構(gòu)的層用含有氧化鋁作為主要成分的晶體形成。
7.根據(jù)權(quán)利要求1-5的任一項(xiàng)的光學(xué)部件,其中該多孔層是其中使氧化硅細(xì)顆粒沉積的層。
8.光學(xué)部件的制造方法,在該光學(xué)部件中,在基材表面上形成層疊體,該方法包括:
在基材上或者基材上設(shè)置的薄膜上施涂含有馬來(lái)酰亞胺共聚物的聚合物溶液;
在23℃-180℃下將施涂的聚合物溶液干燥和/或烘焙以形成含有該馬來(lái)酰亞胺共聚物的聚合物層;和
在該聚合物層上形成多孔層或具有凹凸結(jié)構(gòu)的層。
9.根據(jù)權(quán)利要求8的光學(xué)部件的制造方法,其中該馬來(lái)酰亞胺共聚物具有0.5-0.97的馬來(lái)酰亞胺共聚比率。
10.根據(jù)權(quán)利要求8或9的光學(xué)部件的制造方法,其中該馬來(lái)酰亞胺共聚物含有具有由下述通式(1)表示的馬來(lái)酰亞胺單元和由下述通式(2)表示的(甲基)丙烯酸酯單元的共聚物:
其中,式1中,R1為未取代或者用苯基、羥基、烷氧基、乙酰氧基、環(huán)狀醚基、氨基、烷氧基甲硅烷基或鹵素原子取代的具有1-8個(gè)碳原子的直鏈、支化或環(huán)狀的烷基或烯基,m為1以上的整數(shù);
其中,式2中,R2為氫或甲基并且R3為未取代或者用羥基、烷氧基、乙酰氧基、環(huán)狀醚基、氨基、烷氧基甲硅烷基或鹵素原子取代的具有1-8個(gè)碳原子的直鏈、支化或環(huán)狀的烷基或烯基,m為1以上的整數(shù)。
11.根據(jù)權(quán)利要求8-10的任一項(xiàng)的光學(xué)部件的制造方法,其中具有凹凸結(jié)構(gòu)的層的形成包括:
施涂氧化鋁前體溶膠;
在50℃-250℃下將施涂的氧化鋁前體溶膠干燥和/或烘焙以形成氧化鋁膜;和
將該氧化鋁膜浸入溫水中以形成具有用含有氧化鋁作為主要成分的晶體形成的凹凸結(jié)構(gòu)的層。
12.根據(jù)權(quán)利要求8-10的任一項(xiàng)的光學(xué)部件的制造方法,其中該多孔層的形成包括:
施涂含有具有1nm-100nm的數(shù)平均顆粒直徑的氧化硅顆粒的溶液以制備其中使該氧化硅細(xì)顆粒沉積的膜;和
在50℃-250℃下干燥和/或烘焙其中使氧化硅細(xì)顆粒沉積的膜以形成該氧化硅的多孔層。
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