[發明專利]靜電夾具

在審

• 申請號: 201380059623.X
• 申請日: 2013-12-05
• 公開（公告）號: CN104797979A
• 公開（公告）日: 2015-07-22
• 發明（設計）人: P·克洛普;B·梅爾藤斯;A·諾特布姆
• 申請（專利權）人: ASML荷蘭有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 北京市金杜律師事務所 11256
• 代理人: 王茂華;張寧

與申請相關的交叉引用

本申請要求享有2013年1月22日提交的美國臨時申請案號61/755,088的權益，并且該臨時申請在此通過引用全文并入本文。

技術領域

本發明涉及一種靜電夾具以及一種制造靜電夾具的方法。靜電夾具可以形成光刻設備的一部分。

背景技術

光刻設備是將所需圖案施加至襯底的目標部分上的機器。光刻設備可以例如用于集成電路(IC)的制造。在該情形下，備選地稱作掩?；蜓谀０娴膱D案化裝置可以用于產生對應于IC的單個層的電路圖案，并且該圖案可以成像至具有對輻射敏感材料(抗蝕劑)層的襯底(例如硅晶片)上的目標部分(例如包括一個或數個裸片的一部分)之上。通常，單個襯底將包含連續曝光的相鄰目標部分的網絡。已知的光刻設備包括其中通過一次性暴露整個圖案至目標部分上而照射每個目標部分的所謂步進機，以及其中通過沿給定方向(“掃描”方向)穿過束掃描圖案而并行于或反平行于該方向而同步地掃描襯底的所謂掃描機。也可能通過壓印圖案至襯底上而將圖案從圖案化裝置轉移至襯底。

靜電夾具可以用于其中使用真空夾具不實用的光刻設備中。例如，EUV光刻設備的一些區域工作在真空條件下，并且因此在那些區域中使用真空夾具不實用?？梢蕴娲褂渺o電夾具。可以提供靜電夾具以將諸如掩?；蛞r底(晶片)的物體分別靜電地夾持(也即保持)至諸如掩模工作臺或晶片工作臺的物體支撐。備選地和/或額外地，夾具可以形成物體保持器的一部分。物體保持器可以有時備選地和/或額外地描述作為物體支撐。

需要提供例如一種改進的靜電夾具，其消除或者減緩了不論在此或它處識別的現有技術的一個或多個問題。

發明內容

根據本發明的第一方面，提供了一種靜電夾具，包括電極、位于電極上的阻性材料層、以及位于阻性材料上的電介質層，其中靜電夾具進一步包括從電介質層突出的突節。

突節可以由電介質形成。突節可以由并非電介質的絕緣體形成。

突節與電介質材料層可以均由相同電介質形成。

突節可以由與用于形成電介質層的電介質不同的電介質形成。

其上提供了電介質層的阻性材料的表面可以是平滑的。

其上提供了電介質層的阻性材料的表面可以拋光的。

突節可以由類金剛石碳形成。

電介質層和突節可以均由類金剛石碳形成。

根據本發明的第二方面，提供了一種靜電夾具，包括電極、位于電極上的電介質層，其中靜電夾具進一步包括從電介質層突出的突節。

突節可以由電介質形成。突節可以由并非電介質的絕緣體形成。

突節和電介質材料層可以均由相同電介質形成。

電介質可以由不同于用于形成電介質層的電介質不同的電介質所形成。

其上提供了電介質層的電極的表面可以是平滑的。

其上提供了電介質層的電極的表面可以拋光的。

突節可以由類金剛石碳形成。

電介質層和突節可以均由類金剛石碳形成。

突節和電介質材料層可以均由相同電介質形成。

根據本發明的第三方面，提供了一種制造靜電夾具的方法，包括：

在電極的頂部上提供阻性材料層；

在阻性材料層的頂部上提供電介質層；

移除一些電介質以形成從電介質層突出的突節。

其上提供了電介質層的阻性材料層的表面可以是平滑的。

其上提供了電介質層的阻性材料層的表面可以拋光的。

根據本發明的第四方面，提供了一種制造靜電夾具的方法，包括：

在電極的頂部上提供阻性材料層；

在阻性材料層的頂部上提供電介質層；

在電介質層的頂部上形成突節。

突節可以由電介質形成。突節可以由并非電介質的絕緣體形成。

突節和電介質層可以均使用相同電介質而形成。

其上提供了電介質層的阻性材料層的表面可以是平滑的。

其上提供了電介質層的阻性材料層的表面可以是拋光的。

本發明的第三和第四方面的方法可以設置用于提供一種參照本發明第一方面如上進一步所述的具有任何合適的特征的靜電夾具。

根據本發明的第五方面，提供了一種制造靜電夾具的方法，包括：

在電極的頂部上提供電介質層；

移除一些電介質以形成從電介質材料層突出的突節。

其上提供了電介質層的電極的表面可以是平滑的。