[發明專利]一種低輻射涂層中具有吸收層的低膜側反射率和低可見光透射率的涂層制品有效
| 申請號： | 201380058122.X | 申請日： | 2013-08-28 |
| 公開（公告）號： | CN104781203B | 公開（公告）日： | 2017-06-13 |
| 發明（設計）人： | 貝恩德·迪斯特爾多爾夫;安東·迪特里希;彼得·可可特;亞當·特卡雷茲 | 申請（專利權）人： | 葛迪恩實業公司 |
| 主分類號： | C03C17/36 | 分類號： | C03C17/36;C03C17/34 |
| 代理公司： | 廣州華進聯合專利商標代理有限公司44224 | 代理人： | 劉培培,黎艷 |
| 地址： | 美國密*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
| 權利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 輻射 涂層 具有 吸收 低膜側 反射率 可見光 透射率 制品 | ||
1.一種涂層制品，包括由玻璃基片支撐的涂層，所述涂層包括：
含有銀的第一和第二紅外反射層，其中，所述紅外反射層彼此隔開，且其中，所述第一紅外反射層比所述第二紅外反射層更接近所述玻璃基片；
含有Ni和/或Cr的金屬的第一吸收層，所述第一吸收層位于所述第一和第二紅外反射層之間，其中，所述第一吸收層被夾在含有氮化硅的第一和第二介質層之間并與其接觸；
含有Ni和/或Cr的金屬的第二吸收層，所述第一和第二紅外反射層都位于所述玻璃基片和所述第二吸收層之間，其中，所述第二吸收層位于所述第二紅外反射層和含有氮化硅的第三介質層之間并與其接觸，
其中，所述第一和第二紅外反射層，自所述玻璃基片按順序至少由含有氧化錫的層、所述含有氮化硅的第一層、所述第一吸收層、所述含有氮化硅的第二介質層、含有氧化錫的其他層、和含有氧化鋅的層被隔開。
2.如權利要求1所述的涂層制品，其中，所述第一和第二吸收層分別含有NiCr。
3.如權利要求1所述的涂層制品，其中，所述第一和第二吸收層分別含有NiCrNx。
4.如權利要求1或3中任何一項所述的涂層制品，其中，所述第一和第二吸收層分別含有原子百分比為1-15％的氮。
5.如權利要求1所述的涂層制品，其中，所述第一紅外反射層和所述玻璃基片之間不配置金屬的吸收層。
6.如權利要求1所述的涂層制品，其中，僅兩個含有銀的紅外反射層被包含在所述涂層中。
7.如權利要求1所述的涂層制品，其中，所述第一吸收層的厚度為
8.如權利要求1所述的涂層制品，其中，所述第二吸收層的厚度為
9.如權利要求1所述的涂層制品，其中，所述第一吸收層的厚度大于所述第二吸收層。
10.如權利要求1所述的涂層制品，其中，所述涂層制品的可見光透射率為20-43％，其被單片測量。
11.如權利要求1項所述的涂層制品，其中，所述涂層制品的可見光透射率為24-36％，其被單片測量。
12.如權利要求1所述的涂層制品，其中，所述涂層制品被熱鋼化。
13.如權利要求1所述的涂層制品，其中，所述涂層制品沒有被熱處理。
14.如權利要求1所述的涂層制品，其中，所述涂層中由NiCr或NiCrNx構成的金屬的吸收層不超過兩個。
15.如權利要求1所述的涂層制品，其中，所述含有氮化硅的第三層為所述涂層的最上層。
16.如權利要求1所述的涂層制品，其中，所述第一紅外反射層和所述第一吸收層，自所述玻璃基片按順序至少由含有NiCr氧化物的層、含有氧化錫的層、和所述含有氮化硅的第一層被隔開。
17.如權利要求1所述的涂層制品，其中，所述涂層制品的可見光膜側反射率RfY小于等于26％，被單片測量。
18.如權利要求1所述的涂層制品，其中，所述涂層制品的可見光膜側反射率RfY小于等于24％，其被單片測量。
19.如權利要求1所述的涂層制品，其中，含有NiCr氧化物的被氧化的層，位于所述第一紅外反射層之上并與其直接接觸。
20.如權利要求1所述的涂層制品，其中，含有NiCr和/或NiCrNx的金屬層，位于所述第一紅外反射層之上并與其直接接觸。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息，商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于葛迪恩實業公司，未經葛迪恩實業公司許可，擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作，請聯系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/201380058122.X/1.html，轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
