[發明專利]平臺系統以及包括該平臺系統的光刻設備有效
| 申請號： | 201380048294.9 | 申請日： | 2013-08-19 |
| 公開（公告）號： | CN104641297B | 公開（公告）日： | 2016-11-23 |
| 發明（設計）人： | R·A·C·M·比倫斯;R·J·T·魯滕;J·S·C·韋斯特拉肯;K·J·J·M·扎爾;R·H·A·范萊肖特;E·A·F·范德帕施 | 申請（專利權）人： | ASML荷蘭有限公司 |
| 主分類號： | G03F7/20 | 分類號： | G03F7/20;G01D5/00 |
| 代理公司： | 北京市金杜律師事務所 11256 | 代理人： | 王茂華;呂世磊 |
| 地址： | 荷蘭維*** | 國省代碼： | 荷蘭;NL |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 平臺 系統 以及 包括 光刻 設備 | ||
【權利要求書】：
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