[發明專利]抗蝕劑下層膜形成用組合物和圖案形成方法

有效

• 申請號: 201380046579.9
• 申請日: 2013-09-06
• 公開（公告）號: CN104603691B
• 公開（公告）日: 2019-09-13
• 發明（設計）人: 豐川郁宏;中藤慎也;若松剛史
• 申請（專利權）人: JSR株式會社
• 主分類號: G03F7/11
• 分類號: G03F7/11;G03F7/09;G03F7/26
• 代理公司: 北京集佳知識產權代理有限公司 11227
• 代理人: 左嘉勛;顧晉偉

1.一種抗蝕劑下層膜形成用組合物，含有杯芳烴系化合物和有機溶劑，所述杯芳烴系化合物是杯芳烴具有的酚性羥基的氫原子的至少一部分被碳原子數1～30的1價的有機基團取代而成的且由下述式(3)表示，

式(3)中，R為氫原子或者碳原子數1～30的1價的有機基團，其中，R的至少一部分為1價的有機基團且R表示的1價的有機基團中的至少一個為下述式(b)表示的基團，m為4～12的整數，Y為碳原子數1～10的烴基，q為0～7的整數，p為1～3的整數，其中，滿足1≤p+q≤8，k為0或1，X為取代或非取代的碳原子數1～30的1價的烴基或者氫原子，多個R、X、k、p和q各自可以相同也可以不同，Y為多個時，多個Y可以相同也可以不同，

式(b)中，R^a’為單鍵或者碳原子數1～10的烷烴二基，R^b’、R^c’、和R^d’各自獨立地為氫原子或者1價的烴基。

2.根據權利要求1所述的抗蝕劑下層膜形成用組合物，其中，所述杯芳烴系化合物由下述式(5)表示，

式(5)中，R各自為氫原子或者碳原子數1～30的1價的有機基團，其中，R的至少一部分為1價的有機基團且R表示的1價的有機基團中的至少一個為下述式(b)表示的基團，Y為碳原子數1～10的烴基，q為0～7的整數，p為1～3的整數，其中，滿足1≤p+q≤8，k為0或1，X為取代或非取代的碳原子數1～30的2價的烴基，多個R、X各自可以相同也可以不同，Y為多個時，多個Y可以相同也可以不同，

式(b)中，R^a’為單鍵或者碳原子數1～10的烷烴二基，R^b’、R^c’、和R^d’各自獨立地為氫原子或者1價的烴基。

3.一種抗蝕劑下層膜形成用組合物，含有杯芳烴系化合物和有機溶劑，所述杯芳烴系化合物由下述式(4)表示，

式(4)中，R各自為氫原子或者碳原子數1～30的1價的有機基團，其中，R的至少一部分為1價的有機基團，n為2或3，Y為碳原子數1～10的烴基，q為0～7的整數，p為1～3的整數，其中，滿足1≤p+q≤8，k為0或1，X為取代或非取代的碳原子數1～30的2價的烴基，多個R、X各自可以相同也可以不同，Y為多個時，多個Y可以相同也可以不同。

4.根據權利要求3所述的抗蝕劑下層膜形成用組合物，其中，所述1價的有機基團含有交聯性基團。

5.根據權利要求1或3所述的抗蝕劑下層膜形成用組合物，其中，所述杯芳烴系化合物中的取代酚性羥基的個數與非取代酚性羥基的個數的比為30/70～99/1。

6.根據權利要求1或3所述的抗蝕劑下層膜形成用組合物，其中，固體成分濃度為20質量％時的粘度為1cps～5cps。

7.根據權利要求1或3所述的抗蝕劑下層膜形成用組合物，其中，所述杯芳烴系化合物的分子量為500～3000。

8.根據權利要求1或3所述的抗蝕劑下層膜形成用組合物，其中，所述有機溶劑含有選自多元醇部分醚乙酸酯系溶劑、酮系溶劑和羧酸酯系溶劑中的至少1種。

9.根據權利要求1或3所述的抗蝕劑下層膜形成用組合物，進一步含有樹脂，其中，不包括屬于所述杯芳烴系化合物的樹脂。

10.根據權利要求9所述的抗蝕劑下層膜形成用組合物，其中，所述進一步含有的樹脂含有交聯性基團。

11.根據權利要求9所述的抗蝕劑下層膜形成用組合物，其中，所述進一步含有的樹脂含有選自酚醛清漆系樹脂、甲階酚醛系樹脂、苯乙烯系樹脂、苊烯系樹脂和聚芳撐系樹脂中的至少1種。