[發明專利]渦流式流量測量儀有效
| 申請號： | 201380043193.2 | 申請日： | 2013-06-26 |
| 公開（公告）號： | CN104520680B | 公開（公告）日： | 2018-04-24 |
| 發明（設計）人： | A.比爾吉克;M.戴爾曼;M.格丁;T.穆施;S.諾伊布格爾 | 申請（專利權）人： | 克洛納測量技術有限公司 |
| 主分類號： | G01F1/32 | 分類號： | G01F1/32 |
| 代理公司： | 中國專利代理(香港)有限公司72001 | 代理人： | 陳浩然,宣力偉 |
| 地址： | 德國杜*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 渦流 流量 測量儀 | ||
1.一種渦流式流量測量儀(1)，其帶有：可由介質流經的測量管(2)；用于在介質中產生渦流的至少一個阻流體(3)；和至少一個偏轉體(4)，其至少可由于通過伴隨在介質中的渦流產生的壓力波動而偏轉，其中設置有至少一個電子單元(6)，其為所述偏轉體(4)加載電磁輻射并且從所述偏轉體(4)接收電磁輻射，其特征在于，所述電磁輻射為在微波范圍中的輻射，并且所述偏轉體(4)布置在側向位于所述測量管(2)處且以傳遞壓力的方式與所述測量管(2)相連接的測量室(11)中，其中設置有至少一個傳導裝置(5)，其將電磁輻射引向所述偏轉體(4)和/或將電磁輻射從所述偏轉體(4)中引開，并且其中所述電子單元(6)為所述至少一個傳導裝置(5)加載電磁輻射和/或從所述至少一個傳導裝置(5)量取電磁輻射，并且其中所述至少一個傳導裝置(5)用于固定所述偏轉體(4)。
2.根據權利要求1所述的渦流式流量測量儀(1)，其特征在于，所述偏轉體(4)固定在所述阻流體(3)處或者為所述阻流體(3)的一部分，并且所述至少一個傳導裝置(5)至少部分地固定在所述阻流體(3)處。
3.根據權利要求1或2所述的渦流式流量測量儀(1)，其特征在于，設置有至少兩個傳導裝置(5)，并且所述至少兩個傳導裝置(5)相對于所述偏轉體(4)彼此相對而置地來布置。
4.根據權利要求1或2所述的渦流式流量測量儀(1)，其特征在于，設置有對于電磁輻射可至少部分地穿透的至少一個窗部(10)，并且所述電子單元(6)至少通過所述至少一個窗部(10)為所述偏轉體(4)加載電磁輻射和/或至少通過所述至少一個窗部(10)從所述偏轉體(4)接收電磁輻射。
5.根據權利要求1或2所述的渦流式流量測量儀(1)，其特征在于，至少兩個偏轉體(4)沿著所述測量管(2)的縱軸線(9)布置在所述阻流體(3)之后，或者至少一個偏轉體(4)沿著所述測量管(2)的縱軸線(9)布置在所述阻流體(3)之前，并且至少一個偏轉體(4)沿著所述縱軸線(9)布置在所述阻流體(3)之后。
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