[發(fā)明專利]處理裝置以及器件制造方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201380041430.1
• 申請日: 2013-06-26
• 公開（公告）號: CN104520771B
• 公開（公告）日: 2017-03-08
• 發(fā)明（設計）人: 小松宏一郎
• 申請（專利權）人: 株式會社尼康
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;G03F7/24
• 代理公司: 北京集佳知識產(chǎn)權代理有限公司11227
• 代理人: 李洋,楊林森

1.一種處理裝置，其將形成于掩模圖案的圖案投影曝光于基板，其特征在于，具備：

掩模保持部件，其將上述掩模圖案保持為彎曲的狀態(tài)；

基板支承部件，其支承上述基板；

照明系統(tǒng)，其對上述掩模圖案的一部分進行照明；

中間像形成光學系統(tǒng)，其利用上述照明系統(tǒng)形成與在上述掩模圖案上形成的照明區(qū)域?qū)闹虚g像，并且使上述中間像的切面和上述掩模圖案上的照明區(qū)域的切面滿足向甫魯條件而成為共軛關系；以及

投影光學系統(tǒng)，其向支承于上述基板支承部件的基板上的投影區(qū)域投影上述中間像。

2.根據(jù)權利要求1所述的處理裝置，其特征在于，

上述投影光學系統(tǒng)使上述中間像的上述切面和上述投影區(qū)域的切面滿足向甫魯條件而成為共軛關系。

3.根據(jù)權利要求2所述的處理裝置，其特征在于，

上述基板支承部件具備以使上述基板彎曲成圓筒面狀的狀態(tài)支承上述基板的支承面，

上述投影區(qū)域沿上述基板支承部件的支承面彎曲。

4.根據(jù)權利要求1～3中任一項所述的處理裝置，其特征在于，

上述照明系統(tǒng)從不與上述照明區(qū)域的上述切面垂直的方向?qū)ι鲜稣彰鲄^(qū)域進行照明。

5.根據(jù)權利要求4所述的處理裝置，其特征在于，

上述掩模圖案是透射型掩模圖案，

上述照明系統(tǒng)在上述掩模保持部件的內(nèi)側(cè)配置。

6.根據(jù)權利要求5所述的處理裝置，其特征在于，

上述掩模保持部件以使上述掩模圖案在中心線的周圍彎曲成旋轉(zhuǎn)對稱的圓筒面狀的狀態(tài)保持上述掩模圖案，

在與上述圓筒面的中心線垂直的面中，對于上述掩模圖案中在離上述基板最近的接近點通過的上述圓筒面的徑向而言，相對于上述中心線而在上述接近點的相反側(cè)，與來自上述照明系統(tǒng)的光的射出方向相交。

7.一種處理裝置，其將形成于掩模圖案的圖案投影曝光于基板，其特征在于，具備：

掩模保持部件，其保持上述掩模圖案；

基板支承部件，其將上述基板支承為彎曲的狀態(tài)；

照明系統(tǒng)，其對上述掩模圖案的一部分進行照明；

中間像形成光學系統(tǒng)，其利用上述照明系統(tǒng)形成與在上述掩模圖案上形成的照明區(qū)域?qū)闹虚g像；以及

投影光學系統(tǒng)，其向支承于上述基板支承部件的基板上的投影區(qū)域投影上述中間像，并且使上述中間像的切面和上述投影區(qū)域的切面滿足向甫魯條件而成為共軛關系。

8.根據(jù)權利要求1～7中任一項所述的處理裝置，其特征在于，

具有在形成上述中間像的位置或者其附近配置的場鏡。

9.根據(jù)權利要求8所述的處理裝置，其特征在于，

上述場鏡使來自上述中間像形成光學系統(tǒng)的光偏轉(zhuǎn)而朝向上述投影光學系統(tǒng)。

10.根據(jù)權利要求8或9所述的處理裝置，其特征在于，

上述場鏡具備：

第1光學部件，其相對于上述中間像的切面配置在與上述照明區(qū)域相同的一側(cè)；

第2光學部件，其相對于上述中間像的切面配置在與上述照明區(qū)域相反的一側(cè)；以及

光闌部，其被上述第1光學部件和上述第2光學部件夾持。

11.根據(jù)權利要求1～10中任一項所述的處理裝置，其特征在于，

上述處理裝置包括多個上述中間像形成光學系統(tǒng)和多個上述投影光學系統(tǒng)，還具備：

移動裝置，其使上述基板和上述掩模圖案移動；

第1投影模塊，其包括第1中間像形成光學系統(tǒng)及第1投影光學系統(tǒng)；以及

第2投影模塊，其相對于上述移動裝置的移動方向而在與上述第1投影模塊不同的位置配置，并包括第2中間像形成光學系統(tǒng)及第2投影光學系統(tǒng)，

上述第1投影模塊和上述第2投影模塊在與上述移動裝置的上述移動方向垂直的方向上配置于不同的位置，以使隨著上述移動裝置的移動而在上述第1投影模塊的投影區(qū)域通過的上述基板上的區(qū)域的一部分、和隨著上述移動裝置的移動而在上述第2投影模塊的投影區(qū)域通過的上述基板上的區(qū)域的一部分重疊。

12.根據(jù)權利要求11所述的處理裝置，其特征在于，

具備遍及上述第1投影模塊的成像面和上述第2投影模塊的成像面設置的場鏡。