[發明專利]用于提供電磁輻射的設備

有效

• 申請號: 201380041100.2
• 申請日: 2013-06-14
• 公開（公告）號: CN104520407B
• 公開（公告）日: 2017-06-06
• 發明（設計）人: 丹尼爾·比希勒;蒂姆·菲德勒
• 申請（專利權）人: 歐司朗股份有限公司
• 主分類號: C09K11/08
• 分類號: C09K11/08;C09K11/77;H05B33/10
• 代理公司: 北京集佳知識產權代理有限公司11227
• 代理人: 丁永凡,張春水

1.一種用于提供電磁輻射的設備(10)，具有用于產生激發輻射(14)的輻射裝置(12)并且具有至少一個用于產生轉換輻射(22)的轉換元件(20，26)，所述轉換元件具有至少一種第一發光材料并且所述轉換元件與所述輻射裝置(12)間隔開地設置在所述激發輻射(14)的光路中，其特征在于，作為第一發光材料使用M₂Si₅N₈:D的氮化物硅酸鹽，其中D＝活化劑，所述活化劑單獨地包括Eu，Ce，Mn或者Tb或者包括它們的組合，并且其中M從Ba、Sr、Ca本身或其組合中選擇，其中所述發光材料的平均顆粒大小d50大于20μm且小于30μm，其中活化劑D的濃度相對于M的濃度位于0.1％至1.5％的范圍中。

2.根據權利要求1所述的設備(10)，其特征在于，所述活化劑包含Eu。

3.根據權利要求1所述的設備(10)，其特征在于，所述轉換元件(20，26)相對于所述輻射裝置(12)能運動地設置。

4.根據權利要求3所述的設備(10)，其特征在于，所述設備具有發光材料輪，所述發光材料輪圍繞軸線(24)能轉動地設置并且所述發光材料輪具有所述轉換元件(20，26)。

5.根據權利要求1所述的設備(10)，其特征在于，所述轉換元件(20，26)相對于所述輻射裝置(12)固定地設置。

6.根據權利要求1至5中任一項所述的設備(10)，其特征在于，所述轉換元件的表面具有冷卻結構。

7.根據權利要求1至5中任一項所述的設備(10)，其特征在于，所述輻射裝置(12)具有至少一個輻射源，所述輻射源產生具有高的亮度的激發輻射(14)。

8.根據權利要求7所述的設備(10)，其特征在于，所述輻射源是激光器、激光二極管或超級發光二極管。

9.根據權利要求7所述的設備(10)，其中所述高的亮度位于1W/mm²和50W/mm²之間。

10.根據權利要求8所述的設備(10)，其中所述高的亮度位于1W/mm²和50W/mm²之間。