[發明專利]電阻變化存儲器元件在審
| 申請號: | 201380040723.8 | 申請日: | 2013-08-11 |
| 公開(公告)號: | CN104520991A | 公開(公告)日: | 2015-04-15 |
| 發明(設計)人: | 兒子精祐;勝滿德;佐藤正幸;笹島裕一 | 申請(專利權)人: | 太陽誘電株式會社 |
| 主分類號: | H01L27/105 | 分類號: | H01L27/105;H01L45/00;H01L49/00 |
| 代理公司: | 北京律盟知識產權代理有限責任公司11287 | 代理人: | 路勇 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 電阻 變化 存儲器 元件 | ||
1.一種電阻變化存儲器元件,其包括:
電阻變化絕緣膜;
源極電極,其配置在所述電阻變化絕緣膜的第1主面上;
漏極電極,其配置在所述第1主面上;及
柵極電極,其配置在與所述第1主面上相向的所述電阻變化絕緣膜的第2主面上。
2.根據權利要求1所述的電阻變化存儲器元件,其特征在于:在所述源極電極與所述漏極電極之間具有絕緣膜。
3.根據權利要求1或2所述的電阻變化存儲器元件,其特征在于:使所述柵極電極的電位高于所述源極電極及所述漏極電極的電位而進行刪除動作。
4.根據權利要求1至3中任一項所述的電阻變化存儲器元件,其特征在于:與所述電阻變化絕緣膜的積層方向正交地配置所述源極電極與所述漏極電極。
5.根據權利要求1至4中任一項所述的電阻變化存儲器元件,其特征在于:將具有2×1021cm-3以上的氧空位(Vo)的鋁氧化膜、或過渡金屬以外的金屬氧化膜用作所述電阻變化絕緣膜。
6.根據權利要求5所述的電阻變化存儲器元件,其特征在于:所述過渡金屬為Zn、In、Ga。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L27-00 由在一個共用襯底內或其上形成的多個半導體或其他固態組件組成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共絕緣襯底上形成的無源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有專門適用于整流、振蕩、放大或切換的半導體組件并且至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的;包括至少有一個躍變勢壘或者表面勢壘的無源集成電路單元的
H01L27-14 . 包括有對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射或者微粒子輻射并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或適用于通過這樣的輻射控制電能的半導體組件的
H01L27-15 .包括專門適用于光發射并且包括至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的半導體組件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料結點的熱電元件的;包括有熱磁組件的





