[發(fā)明專利]用于化學(xué)機械拋光的漿料和化學(xué)機械拋光方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201380037343.9
• 申請日: 2013-05-27
• 公開（公告）號: CN104471684B
• 公開（公告）日: 2018-01-23
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 加藤充;岡本知大;加藤晉哉
• 申請（專利權(quán)）人: 可樂麗股份有限公司
• 主分類號: H01L21/304
• 分類號: H01L21/304;B24B37/00;C09K3/14
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務(wù)所11105
• 代理人: 邢岳

1.用于化學(xué)機械拋光的漿料，包含：

研磨劑顆粒(a)，

具有pKa大于9的氨基和不少于3個羥基的化合物(b)，和

水，

其中，所述化合物(b)為葡糖胺和/或其衍生物。

2.根據(jù)權(quán)利要求1的漿料，其中

所述研磨劑顆粒(a)的濃度為0.1-20質(zhì)量％，和

所述化合物(b)的濃度為0.001-1質(zhì)量％。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2的漿料，其中所述研磨劑顆粒(a)為選自氧化鈰、氧化錳、氧化鐵、氧化鈦、氧化鎂、氧化鋯和氧化鉭的至少一種。

4.根據(jù)權(quán)利要求1或2的漿料，其中所述化合物(b)的所述氨基的pKa為9.2-10.5。

5.根據(jù)權(quán)利要求1或2的漿料，其中所述化合物(b)的所述氨基的數(shù)量為1。

6.根據(jù)權(quán)利要求1或2的漿料，其中所述化合物(b)具有100-1000的分子量。

7.根據(jù)權(quán)利要求1或2的漿料，進一步包含濃度為0.001-5質(zhì)量％的水溶性聚合物(c)。

8.根據(jù)權(quán)利要求7的漿料，其中所述水溶性聚合物(c)為陰離子型聚合物和/或非離子型聚合物。

9.根據(jù)權(quán)利要求7的漿料，其中所述水溶性聚合物(c)為選自如下的至少一種：

水溶性聚合物(c1)，其通過如下獲得：使25-100質(zhì)量％的選自(甲基)丙烯酸、馬來酸、衣康酸和乙烯基吡咯烷酮的至少一種單體和75-0質(zhì)量％的另外的具有不飽和雙鍵的單體聚合；

水溶性聚合物(c2)，其通過如下獲得：使50-100質(zhì)量％的通過水解形成乙烯醇骨架的單體和50-0質(zhì)量％的另外的具有不飽和雙鍵的單體聚合，隨后水解；

水溶性多糖(c3)；

具有羧基和/或聚氧乙烯基團的水溶性聚氨酯(c4)；和

它們的水溶性衍生物(c5)。

10.根據(jù)權(quán)利要求1或2的漿料，進一步包含濃度為0.0001-1質(zhì)量％的具有由式(1)或(2)示出的結(jié)構(gòu)的化合物(d)

其中R¹、R²和R³各自獨立地為具有1-6個碳原子的亞烷基，

R⁴為氫原子或具有1-3個碳原子的烷基，和

n為0-9的整數(shù)。

11.根據(jù)權(quán)利要求10的漿料，其中所述化合物(d)為選自如下的至少一種：亞氨基二乙酸、N-(2-羥基乙基)亞氨基二乙酸、天冬氨酸-N,N-二乙酸、次氨基三乙酸、N-(2-羥基乙基)乙二胺-N,N’,N’-三乙酸、乙二胺-N,N,N’,N’-四乙酸、丙二胺-N,N,N’,N’-四乙酸、乙二醇醚二胺-N,N,N’,N’-四乙酸、1,2-二氨基環(huán)己烷-N,N,N’,N’-四乙酸、二亞乙基三胺-N,N,N’,N”,N”-五乙酸、三亞乙基四胺-N,N,N’,N”,N”’,N”’-六乙酸、3-羥基-2,2’-亞氨基二琥珀酸和乙二胺二琥珀酸。

12.根據(jù)權(quán)利要求1或2的漿料，具有3-11的pH。

13.化學(xué)機械拋光方法，該方法包括通過使用權(quán)利要求1-12中任一項的漿料來拋光絕緣膜。

14.根據(jù)權(quán)利要求13的方法，其用于形成淺溝槽隔離。