[發明專利]層壓型光學片模塊有效
| 申請號: | 201380033661.8 | 申請日: | 2013-06-24 |
| 公開(公告)號: | CN104412132A | 公開(公告)日: | 2015-03-11 |
| 發明(設計)人: | 閔池泓;金榮一;趙誠植;李宇鐘;李泰浚;金熹貞;黃俊皖 | 申請(專利權)人: | 株式會社LMS |
| 主分類號: | G02B5/02 | 分類號: | G02B5/02;G02B5/04;G02F1/13357 |
| 代理公司: | 北京品源專利代理有限公司 11332 | 代理人: | 呂琳;楊生平 |
| 地址: | 韓國京畿*** | 國省代碼: | 韓國;KR |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 層壓 光學 模塊 | ||
1.一種層壓型光學片模塊,其中,該層壓型光學片模塊包括:
上部光學片,其具有第一單元集光體不斷重復的第一結構化圖案,其中所述第一單元集光體形成有越往上部橫截面積逐漸變小的傾斜面;以及
下部光學片,其以層壓形態配置于所述上部光學片的下部,具有第二單元集光體不斷重復的第二結構化圖案,其中第二單元集光體形成有越往上部橫截面積逐漸變小的傾斜面,
其中,從所述第二單元集光體的最下部至最上部的垂直距離形成為較所述第一單元集光體的最下部至最上部的垂直距離更長,且所述第二單元集光體的傾斜面具有與所述第一單元集光體的傾斜面相比相對更大的表面積。
2.根據權利要求1所述的層壓型光學片模塊,其特征在于,
所述第二單元集光體的截面軌跡的傾斜角度具有與所述第一單元集光體相同的傾斜角度。
3.根據權利要求1所述的層壓型光學片模塊,其特征在于,所述第二單元集光體包括:
光傳遞部,其對入射的光進行集光,并傳遞至上部;以及
接合部,其連接于所述光傳遞部的上部,并接合于所述上部光學片。
4.根據權利要求3所述的層壓型光學片模塊,其特征在于,
所述第二單元集光體的所述光傳遞部的截面軌跡的長度較所述第一單元集光體的截面軌跡的長度相同或者更長。
5.根據權利要求3所述的層壓型光學片模塊,其特征在于,
所述接合部在所述第二單元集光體和所述上部光學片的接合過程中經變形而形成。
6.根據權利要求3所述的層壓型光學片模塊,其特征在于,
所述光傳遞部的形狀不發生變形,能夠保持截面軌跡的長度,并與所述上部光學片進行接合。
7.根據權利要求3所述的層壓型光學片模塊,其特征在于,所述接合部包括:
一對延長面,其從所述光傳遞部的上部向上部方向延長而成;以及
接合面,其兩側各自連接于所述一對延長面,且與所述上部光學片接合。
8.根據權利要求7所述的層壓型光學片模塊,其特征在于,
所述接合面的截面的軌跡彎曲地形成。
9.根據權利要求3所述的層壓型光學片模塊,其特征在于,
所述接合部形成為連接所述光傳遞部的截面軌跡的上部方向末端部的連接面的形狀。
10.根據權利要求1所述的層壓型光學片模塊,其特征在于,
所述第二結構化圖案的上部方向末端部直接接合于所述上部光學片的下表面。
11.根據權利要求1所述的層壓型光學片模塊,其特征在于,
還包括粘附層,其形成于所述上部光學片和下部光學片之間,并嵌入所述第二結構化圖案的上部方向末端部。
12.根據權利要求1所述的層壓型光學片模塊,其特征在于,
所述第一單元集光體及所述第二單元集光體的截面形狀為三角形形狀。
13.根據權利要求1所述的層壓型光學片模塊,其特征在于,
還包括反射偏光膜,其與所述下部光學片及所述上部光學片以層壓形狀配置,并能夠根據從下部傳遞的光的偏光狀態選擇性地透射光。
14.根據權利要求13所述的層壓型光學片模塊,其特征在于,
所述反射偏光膜層壓配置于所述上部光學片和所述下部光學片之間。
15.根據權利要求13所述的層壓型光學片模塊,其特征在于,
所述反射偏光膜層壓配置于所述上部光學片的上部。
16.根據權利要求1至15中的任一項所述的層壓型光學片模塊,其特征在于,
所述第二結構化圖案具有相同截面的形狀,并沿著橫向延長而成。
17.根據權利要求16所述的層壓型光學片模塊,其特征在于,
所述上部光學片及所述下部光學片配置成所述第一結構化圖案的延長方向及所述第二結構化圖案的延長方向相互交叉。
18.根據權利要求17所述的層壓型光學片模塊,其特征在于,
所述第一結構化圖案和所述第二結構化圖案垂直地交叉。
19.一種層壓型光學片模塊,其中,該層壓型光學片模塊包括:
上部光學片,其具有第一單元集光體不斷重復的第一結構化圖案,其中所述第一單元集光體越往上部橫截面積逐漸變小;以及
下部光學片,其以層壓形態配置于所述上部光學片的下部,具有第二單元集光體不斷重復的第二結構化圖案,其中所述第二單元集光體越往上部橫截面積逐漸變小,
其中,所述第二單元集光體形成為具有與所述第一單元集光體相同的橫截面形狀,且形成較所述第一單元集光體相對更大的橫截面積,從而使鄰接的單元集光體的距離相對較長。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于株式會社LMS,未經株式會社LMS許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201380033661.8/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇:增亮膜及含有該增亮膜的背光單元
- 下一篇:熱式流量計





