[發(fā)明專(zhuān)利]用于再生鍍覆組合物的方法及再生裝置

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201380029114.2
• 申請(qǐng)日: 2013-05-30
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN104334769A
• 公開(kāi)（公告）日: 2015-02-04
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: A·基利安;C·內(nèi)特利希;D·梅茨格;S·屈內(nèi)
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 埃托特克德國(guó)有限公司
• 主分類(lèi)號(hào): C23C18/16
• 分類(lèi)號(hào): C23C18/16;C23C18/52
• 代理公司: 永新專(zhuān)利商標(biāo)代理有限公司 72002
• 代理人: 過(guò)曉東

1.再生鍍覆組合物的方法，所述鍍覆組合物適于在基材(10)上沉積至少一種第一金屬，且所述鍍覆組合物容納于至少一個(gè)鍍覆設(shè)備(100)中，所述鍍覆組合物含有離子態(tài)的所述至少一種第一金屬及離子態(tài)的至少一種第二金屬，其中所述至少一種第二金屬可以較高和較低的氧化態(tài)提供，當(dāng)以較低氧化態(tài)提供時(shí)，其能夠?qū)㈦x子態(tài)的所述至少一種第一金屬還原為金屬態(tài)，所述方法包含：

(a)提供再生設(shè)備(200)，其具有工作電極(205)及反電極(206)，所述工作電極(205)設(shè)置在工作電極室(202)中，所述反電極(206)設(shè)置在反電極室(203)中，所述工作電極室(202)及所述反電極室(203)通過(guò)離子選擇性膜(204)彼此分開(kāi)，其中所述反電極室(203)容納反電極液體；

(b)自所述至少一個(gè)鍍覆設(shè)備(100)移除至少部分的所述鍍覆組合物；

(c)使所述移除的鍍覆組合物的至少一分量與所述再生設(shè)備(200)的所述工作電極(205)接觸，并陰極極化所述工作電極(205)，使得以較高氧化態(tài)提供的所述至少一種第二金屬被還原為較低氧化態(tài)，所述至少一種第一金屬以金屬態(tài)沉積于工作電極(205)上，從而產(chǎn)生所述移除的組合物的第一部分；然后

(d)自所述移除的組合物移除所述第一部分，然后將所述移除的組合物的剩余部分與所述工作電極(205)接觸，所述工作電極(205)具有在方法步驟(c)中已以金屬態(tài)沉積于其上的所述至少一種第一金屬，并陽(yáng)極極化所述工作電極(205)，使得以金屬態(tài)沉積于所述工作電極(205)上的所述至少一種第一金屬溶解入所述移除的組合物的剩余部分中，以形成離子形式的所述至少一種第一金屬，從而產(chǎn)生所述移除的組合物的第二部分；然后

(e)返回所述第一及第二部分至所述至少一個(gè)鍍覆設(shè)備(100)，以得到含有離子形式的所述至少一種第一金屬和以較低氧化態(tài)提供的所述至少一種第二金屬的所述鍍覆組合物，使得所述鍍覆組合物能夠?qū)㈦x子形式的所述至少一種第一金屬還原為金屬態(tài)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1的方法，其中所述至少一種第一金屬為錫。

3.根據(jù)前述權(quán)利要求之一的方法，其中所述至少一種第二金屬為鈦。

4.根據(jù)前述權(quán)利要求之一的方法，其中所述離子態(tài)的至少一種第一金屬為二價(jià)錫，且其中所述較低氧化態(tài)的至少一種第二金屬為三價(jià)鈦。

5.根據(jù)前述權(quán)利要求之一的方法，其中所述鍍覆組合物含有焦磷酸鹽離子。

6.根據(jù)前述權(quán)利要求之一的方法，其中所述鍍覆組合物的pH為約6至約9。

7.根據(jù)前述權(quán)利要求之一的方法，其中當(dāng)所述鍍覆組合物由所述至少一個(gè)鍍覆設(shè)備(100)移除、傳送至所述工作電極(205)接觸并與其接觸時(shí)，維持所述鍍覆組合物的pH。