[發明專利]用于制備具有低氧含量的銅電沉積物的添加劑有效
| 申請號: | 201380027336.0 | 申請日: | 2013-04-15 |
| 公開(公告)號: | CN104428452B | 公開(公告)日: | 2017-05-17 |
| 發明(設計)人: | T·皮爾遜 | 申請(專利權)人: | 麥克德米德尖端有限公司 |
| 主分類號: | C25D3/38 | 分類號: | C25D3/38 |
| 代理公司: | 北京三幸商標專利事務所(普通合伙)11216 | 代理人: | 劉激揚 |
| 地址: | 美國康*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 用于 制備 具有 低氧 含量 沉積物 添加劑 | ||
1.一種用于制備銅電沉積物的銅電鍍浴,該銅電鍍浴包含:
a)可溶的銅鹽;
b)包含一種以上的酸的電解質;以及
c)包含烷基二胺的晶粒細化添加劑;
其中該二胺具有下列結構:
(1)R1-R2-N-R3-N-R4-R5,
其中R1、R2、R4和R5為氫或C1-C4烷基,R3為C4-C14烷基。
2.根據權利要求1的銅電鍍浴,其中該可溶的銅鹽是從由硫酸銅、氟硼酸銅及氨基磺酸銅所組成的群組中選出的。
3.根據權利要求2的銅電鍍浴,其中該可溶的銅鹽包含硫酸銅。
4.根據權利要求1的銅電鍍浴,其中該一種以上的酸是從由硫酸、氟硼酸、磷酸、硝酸、氨基磺酸及一種以上前述物質的組合所構成的群組中選出的。
5.根據權利要求4的銅電鍍浴,其中該一種以上的酸包含硫酸。
6.根據權利要求1的銅電鍍浴,其中該二胺包含4,4-二氨基-2,2-二甲基雙環己基甲烷。
7.根據權利要求1的銅電鍍浴,其中該二胺在該電鍍浴中的濃度為10ppm~10g/L。
8.根據權利要求7的銅電鍍浴,其中該二胺在該電鍍浴中的濃度為100ppm~1000ppm。
9.根據權利要求1的銅電鍍浴,其包含具有一個以上硫原子的光亮劑。
10.根據權利要求9的銅電鍍浴,其中該光亮劑包含磺烷基砜化合物。
11.根據權利要求9的銅電鍍浴,其中該光亮劑是從由n,n-二甲基-二硫胺甲酸-(3-磺丙基)酯、3-巰基-丙基磺酸-(3-磺丙基)酯、3-巰基-丙基磺酸(鈉鹽)、具有3-巰基-1-丙烷磺酸(鉀鹽)的碳酸-二硫基-o-乙基酯-s-酯、雙磺丙基二硫醚;3-(苯并噻唑基-s-硫基)丙基磺酸(鈉鹽)、吡啶丙基磺基甜菜堿、1-鈉-3-巰基丙烷-1-磺酸鹽、二烷基氨基-硫雜-甲基-硫烷磺酸的過氧化物氧化產物、及一種以上前述物質的組合所構成的群組中選出。
12.根據權利要求9的銅電鍍浴,其中該光亮劑以1ppm~40ppm的濃度存在于該電解質中。
13.根據權利要求1的銅電鍍浴,其包含整平劑。
14.一種制造銅電鑄物的方法,該方法包括以下步驟:
a)從酸性銅電鍍浴將銅電沉積到心軸上,其中該酸性銅電鍍浴包含:
i)可溶的銅鹽;
ii)包含一種以上的酸的電解質;及
iii)包含烷基二胺的晶粒細化添加劑;
其中該二胺具有下列結構:
(1)R1-R2-N-R3-N-R4-R5,
其中R1、R2、R4和R5為氫或C1-C4烷基,R3為C4-C14烷基;并且
b)從該心軸上分離該電沉積銅。
15.根據權利要求14的方法,其中該可溶的銅鹽是從由硫酸銅、氟硼酸銅和氨基磺酸銅所組成的群組中選出。
16.根據權利要求15的方法,其中該可溶的銅鹽包含硫酸銅。
17.根據權利要求14的方法,其中該一種以上的酸是從由硫酸、氟硼酸、磷酸、硝酸、氨基磺酸及一種以上前述物質的組合所構成的群組中選出的。
18.根據權利要求17的方法,其中該一種以上的酸包含硫酸。
19.根據權利要求14的方法,其中該二胺包含4,4-二氨基-2,2-二甲基雙環己基甲烷。
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