[發明專利]具有受控改性的石墨烯納米帶有效
| 申請號： | 201380026113.2 | 申請日： | 2013-05-13 |
| 公開（公告）號： | CN104379497B | 公開（公告）日： | 2017-06-06 |
| 發明（設計）人： | R·法澤爾;P·呂菲克斯;K·米倫;J·蔡;X·馮;R·伯杰 | 申請（專利權）人： | 巴斯夫歐洲公司;瑞士材料科學技術研究所;馬克思—普朗克科學促進協會公司 |
| 主分類號： | B82B3/00 | 分類號： | B82B3/00 |
| 代理公司： | 北京市中咨律師事務所11247 | 代理人： | 肖威,劉金輝 |
| 地址： | 德國路*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 具有 受控 改性 石墨 納米 | ||
1.一種石墨烯納米帶，其包含含至少一種改性的重復單元RU1，其中所述改性選自雜原子替代、空位、sp3雜化、Stone-Wales缺陷、反Stone-Wales缺陷、六邊形sp2雜化碳網絡環尺寸改性及其任意組合，其中所有重復單元RU1包含至少一種改性。
2.根據權利要求1的石墨烯納米帶，其中重復單元RU1的一種或多種雜原子替代改性的雜原子或雜原子基團選自氮、硼、磷及其氧化物、硅、氧、硫及其氧化物、氫或其任意組合。
3.根據權利要求1的石墨烯納米帶，其中重復單元RU1衍生自至少一種芳族單體化合物，所述芳族單體化合物選自至少一種取代或未取代的多環芳族單體化合物、至少一種取代或未取代的低聚亞苯基芳族單體化合物或其任意組合。
4.根據權利要求2的石墨烯納米帶，其中重復單元RU1衍生自至少一種芳族單體化合物，所述芳族單體化合物選自至少一種取代或未取代的多環芳族單體化合物、至少一種取代或未取代的低聚亞苯基芳族單體化合物或其任意組合。
5.根據權利要求3的石墨烯納米帶，其中所述芳族單體化合物包含至少一個芳族或非芳族雜環。
6.根據權利要求4的石墨烯納米帶，其中所述芳族單體化合物包含至少一個芳族或非芳族雜環。
7.根據權利要求3的石墨烯納米帶，其中所述多環芳族單體化合物包含兩個或更多個稠合芳環和至少一個包含一個或多個雜原子的稠合芳環。
8.根據權利要求4的石墨烯納米帶，其中所述多環芳族單體化合物包含兩個或更多個稠合芳環和至少一個包含一個或多個雜原子的稠合芳環。
9.根據權利要求5的石墨烯納米帶，其中所述多環芳族單體化合物包含兩個或更多個稠合芳環和至少一個包含一個或多個雜原子的稠合芳環。
10.根據權利要求6的石墨烯納米帶，其中所述多環芳族單體化合物包含兩個或更多個稠合芳環和至少一個包含一個或多個雜原子的稠合芳環。
11.根據權利要求3-10中任一項的石墨烯納米帶，其中所述多環芳族單體化合物包含兩個或更多個稠合芳環和至少一個與至少一個所述稠合芳環連接的非稠合雜環基團；和/或所述低聚亞苯基芳族單體化合物包含至少一個與亞苯基連接的雜環基團。
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