[發(fā)明專利]紅外線傳感器裝置和用于制造紅外線傳感器裝置的方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201380025592.6 | 申請(qǐng)日: | 2013-04-19 |
| 公開(公告)號(hào): | CN104412386B | 公開(公告)日: | 2017-11-07 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | I·赫爾曼;E·佐默;C·舍林;C·雷蒂希;M·哈塔斯 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 羅伯特·博世有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01L27/146 | 分類號(hào): | H01L27/146;G01J5/20 |
| 代理公司: | 中國(guó)專利代理(香港)有限公司72001 | 代理人: | 張濤,胡莉莉 |
| 地址: | 德國(guó)斯*** | 國(guó)省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 紅外線 傳感器 裝置 用于 制造 方法 | ||
1.紅外線傳感器裝置(100;200;300),具有:
- 半導(dǎo)體襯底(1);
– 至少一個(gè)在所述半導(dǎo)體襯底(1)中微機(jī)械構(gòu)造的傳感器元件(2);和
– 至少一個(gè)在所述半導(dǎo)體襯底(1)中微機(jī)械構(gòu)造的、用于所述傳感器元件(2)的校準(zhǔn)元件(3),
其中在所述半導(dǎo)體襯底(1)上在所述傳感器元件(2)和所述校準(zhǔn)元件(3)的區(qū)域內(nèi)布置吸收材料(6),其中在所述半導(dǎo)體襯底(1)中在所述傳感器元件(2)之下并且在所述校準(zhǔn)元件(3)之下分別構(gòu)造洞穴(8),其中所述傳感器元件(2)和所述校準(zhǔn)元件(3)借助所述洞穴(8)來與其余的半導(dǎo)體襯底(1)進(jìn)行分離,
其中所述校準(zhǔn)元件(3)與所述半導(dǎo)體襯底(1)通過熱橋(13)熱耦合,以及
其中所述熱橋(13)包含用于提升所述熱橋(13)的導(dǎo)熱性的金屬結(jié)構(gòu)(4)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的紅外線傳感器裝置,其中所述半導(dǎo)體襯底(1)是單晶的硅襯底,在所述硅襯底中針對(duì)所述傳感器元件(2)和針對(duì)所述校準(zhǔn)元件(3)分別構(gòu)造至少一個(gè)二極管(5)。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的紅外線傳感器裝置,其中借助懸掛裝置(10)將所述傳感器元件(2)固定在所述半導(dǎo)體襯底(1)上的兩個(gè)區(qū)域內(nèi)。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的紅外線傳感器裝置,其中在豎直方向上對(duì)稱地構(gòu)造所述懸掛裝置(10),其中所述懸掛裝置(10)內(nèi)的電導(dǎo)體線路(4)被布置在兩個(gè)相同厚度的吸收材料(6)的層之間的中間,其中所述導(dǎo)體線路(4)在側(cè)面被所述吸收材料(6)所覆蓋。
5.根據(jù)權(quán)利要求3或4所述的紅外線傳感器裝置,其中,在所述傳感器元件(2)的所述懸掛裝置(10)的區(qū)域內(nèi)和在所述校準(zhǔn)元件(3)的所述二極管(5)的區(qū)域內(nèi)的吸收材料(6)比在其余的紅外線傳感器裝置(100)上的吸收材料具有更小的層厚度。
6.根據(jù)權(quán)利要求1至4中任一項(xiàng)所述的紅外線傳感器裝置,其中,通過在列或行線路區(qū)域(20,30)與二極管區(qū)域(5)之間的所述熱橋(13)來將所述校準(zhǔn)元件(3)和所述半導(dǎo)體襯底(1)進(jìn)行熱耦合。
7.根據(jù)權(quán)利要求1至4中任一項(xiàng)所述的紅外線傳感器裝置,其中,在所述傳感器元件(2)上布置的吸收材料(6)的光學(xué)厚度對(duì)應(yīng)于待檢測(cè)輻射(S)的四分之一波長(zhǎng)的奇數(shù)倍。
8.根據(jù)權(quán)利要求1至4中任一項(xiàng)所述的紅外線傳感器裝置,其中,所述吸收材料是氧化物。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的紅外線傳感器裝置,其中所述吸收材料是氧化硅。
10.根據(jù)權(quán)利要求1至4中任一項(xiàng)所述的紅外線傳感器裝置,其中,在所述傳感器元件(2)的表面上在所述吸收材料(6)上布置反射層(11)。
11.根據(jù)權(quán)利要求4所述的紅外線傳感器裝置,其中,所述電導(dǎo)體線路(4)的材料是來自于組Ti、TiN、Ta、TaN中的至少一種和/或這些材料的組合。
12.根據(jù)權(quán)利要求1至4中任一項(xiàng)所述的紅外線傳感器裝置,其中在所述傳感器元件(2)之下在所述洞穴(8)的底部構(gòu)造聚束裝置(7),用于對(duì)借助所述傳感器元件(2)待檢測(cè)的輻射(S)進(jìn)行聚束。
13.根據(jù)權(quán)利要求1至4中任一項(xiàng)所述的紅外線傳感器裝置,其中,在所述傳感器元件(2)和所述校準(zhǔn)元件(3)的表面的至少一個(gè)片段上向上方地、小塊狀地構(gòu)造所述吸收材料(6)。
14.紅外線傳感器場(chǎng),具有多個(gè)根據(jù)權(quán)利要求1至13中任一項(xiàng)所述的紅外線傳感器裝置(100;200;300)。
15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的紅外線傳感器場(chǎng),其中,所述傳感器場(chǎng)的每行和每列具有至少一個(gè)校準(zhǔn)元件(3)。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L27-00 由在一個(gè)共用襯底內(nèi)或其上形成的多個(gè)半導(dǎo)體或其他固態(tài)組件組成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共絕緣襯底上形成的無源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有專門適用于整流、振蕩、放大或切換的半導(dǎo)體組件并且至少有一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或者表面勢(shì)壘的;包括至少有一個(gè)躍變勢(shì)壘或者表面勢(shì)壘的無源集成電路單元的
H01L27-14 . 包括有對(duì)紅外輻射、光、較短波長(zhǎng)的電磁輻射或者微粒子輻射并且專門適用于把這樣的輻射能轉(zhuǎn)換為電能的,或適用于通過這樣的輻射控制電能的半導(dǎo)體組件的
H01L27-15 .包括專門適用于光發(fā)射并且包括至少有一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或者表面勢(shì)壘的半導(dǎo)體組件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料結(jié)點(diǎn)的熱電元件的;包括有熱磁組件的





