[發明專利]攝像元件以及攝像裝置

在審

• 申請號: 201380025105.6
• 申請日: 2013-03-15
• 公開（公告）號: CN104303302A
• 公開（公告）日: 2015-01-21
• 發明（設計）人: 鈴木智
• 申請（專利權）人: 株式會社尼康
• 主分類號: H01L27/14
• 分類號: H01L27/14;G02B7/34;G03B3/00;H04N5/369;H04N9/07;H04N13/02
• 代理公司: 北京市金杜律師事務所 11256
• 代理人: 陳偉

1.一種攝像元件，其特征在于，具備：

光電轉換元件，該光電轉換元件將入射光光電轉換為電信號，并且二維地排列；以及

反射率調整膜，該反射率調整膜形成在光電轉換元件中的至少一部分的各個受光面上，并且至少包含具有第一反射率的第一部分以及具有與第一反射率不同的第二反射率的第二部分。

2.根據權利要求1所述的攝像元件，其特征在于，

所述第一反射率比所述第二反射率小，

在相鄰的n個所述光電轉換元件中的至少兩個光電轉換元件各自的所述受光面上形成的所述反射率調整膜的所述第一部分，以分別使來自所述入射光的截面區域內的相互不同的部分區域的光束通過的方式被定位，其中n為2以上的整數。

3.根據權利要求2所述的攝像元件，其特征在于，

以所述n個所述光電轉換元件為一組的光電轉換元件組連續地排列。

4.根據權利要求1至3中任一項所述的攝像元件，其特征在于，

具備彩色濾光片，該彩色濾光片位于比所述反射率調整膜更靠被拍攝體側，并且與各個所述光電轉換元件一一對應地設置。

5.根據權利要求4所述的攝像元件，其特征在于，

所述反射率調整膜的特性按所述彩色濾光片的種類而不同。

6.根據權利要求1至5中任一項所述的攝像元件，其特征在于，

具備開口掩膜，該開口掩膜位于比所述反射率調整膜更靠被拍攝體側，并且與各個所述光電轉換元件一一對應地設置。

7.根據權利要求1至6中任一項所述的攝像元件，其特征在于，具備：

基板，該基板在相對的兩個表面中的一方的表面上排列有所述光電轉換元件；以及

布線層，該布線層形成在所述基板中的所述兩個表面的另一方的表面上。

8.一種攝像裝置，其特征在于，具備：

權利要求1至7中任一項所述的攝像元件，以及

圖像處理部，該圖像處理部根據所述攝像元件的輸出，生成相互具有視差的多個視差圖像數據和無視差的2D圖像數據。

9.一種反射率調整膜的制造方法，所述反射調整膜形成在將入射光光電轉換為電信號并且二維地排列的光電轉換元件的受光面上，其特征在于，包括以下工序：

第一膜成膜工序，在形成有所述光電轉換元件的基板上成膜第一膜；

第一膜厚調整工序，調整所述第一膜的膜厚以使得在各個所述光電轉換元件的受光面上被區域分割的第一部分和第二部分成為相互不同的膜厚；

第二膜成膜工序，在所述第一膜上成膜與所述第一膜不同的第二膜；以及

第二膜厚調整工序，調整所述第二膜的膜厚以使得所述第一部分和所述第二部分成為相互不同的膜厚。

10.一種反射率調整膜的制造方法，所述反射率調整膜形成在將入射光光電轉換為電信號并且二維地排列的光電轉換元件的受光面上，其特征在于，包括以下工序：

第一膜成膜工序，在形成有所述光電轉換元件的基板上成膜第一膜；

第一掩膜工序，對在各個所述光電轉換元件的受光面上被區域分割的第一部分和第二部分中的所述第一部分實施掩膜；

第一蝕刻工序，對所述第一膜進行蝕刻；

第二膜成膜工序，在所述第一膜上成膜與所述第一膜不同的第二膜；

第二掩膜工序，對所述第一部分和所述第二部分中的某一方實施掩膜；以及

第二蝕刻工序，對所述第二膜進行蝕刻。

11.根據權利要求9或10所述的反射率調整膜的制造方法，其特征在于，

所述第一膜具有從SiO₂、SiON中選擇的組成，所述第二膜具有從SiN、Ta₂O₅、MgF、SiON中選擇的組成。