[發(fā)明專利]照射計劃裝置以及帶電粒子照射系統(tǒng)

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201380023477.5
• 申請日: 2013-04-16
• 公開（公告）號: CN104411362B
• 公開（公告）日: 2017-06-13
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 稻庭拓;兼松伸幸;古川卓司;白井敏之;野田耕司
• 申請（專利權(quán)）人: 國立研究開發(fā)法人量子科學(xué)技術(shù)研究開發(fā)機構(gòu)
• 主分類號: A61N5/10
• 分類號: A61N5/10;G21K5/04
• 代理公司: 北京三友知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司11127
• 代理人: 李輝,金玲

1.一種照射計劃裝置，其確定帶電粒子照射系統(tǒng)的照射參數(shù)，該帶電粒子照射系統(tǒng)通過加速器對由離子源生成的帶電粒子進(jìn)行加速而照射到目標(biāo)處，其中，

該照射計劃裝置具有：

復(fù)合照射參數(shù)確定單元，其以按照目標(biāo)內(nèi)的部位使所照射的離子種的種類或所照射的多種離子種的比例不同的方式確定針對1個目標(biāo)的所述照射參數(shù)；以及

存儲單元，其存儲對于至少一部分的離子種設(shè)定了最大深度的最大深度數(shù)據(jù)，

所述復(fù)合照射參數(shù)確定單元將向比所述最大深度深的位置處照射的離子種設(shè)為設(shè)定了該最大深度的離子種以外的離子種。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的照射計劃裝置，其中，

所述復(fù)合照射參數(shù)確定單元被構(gòu)成為執(zhí)行求出優(yōu)選的所述照射參數(shù)的重復(fù)運算，

在評價所述照射參數(shù)的優(yōu)選度的評價指標(biāo)的計算式中包含以所述目標(biāo)內(nèi)的照射點為單位計算照射了多種離子種的帶電粒子的劑量的算式。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的照射計劃裝置，其中，

所述復(fù)合照射參數(shù)確定單元被構(gòu)成為，按照3維位置確定對于所述目標(biāo)的多個照射點，以使得大量照射到照射深處側(cè)的照射點的離子種成為比照射到照射緊前側(cè)的離子種輕的離子種的方式進(jìn)行確定。

4.一種帶電粒子照射系統(tǒng)，其具有：

離子源，其生成帶電粒子；

加速器，其對由所述離子源生成的所述帶電粒子進(jìn)行加速；

照射裝置，其將從所述加速器取出的帶電粒子照射到目標(biāo)處；以及

控制裝置，其控制所述離子源、所述加速器和所述照射裝置的工作，其中，

所述離子源由多種離子源構(gòu)成，該多種離子源生成不同的離子種作為所述帶電粒子，

所述控制裝置具有：

電流模式存儲部，其按所述離子種確定了在所述加速器中設(shè)置的電磁鐵處流過的電流值；以及

多離子種照射控制部，其對于1個所述目標(biāo)，根據(jù)所使用的所述離子源和所述電流模式存儲部的電流值，對應(yīng)地切換在所述加速器中的所述電磁鐵處流過的電流值，切換多種離子種而進(jìn)行照射。