[發明專利]具有低Si含量的鋼帶材有效
| 申請號： | 201380022062.6 | 申請日： | 2013-04-05 |
| 公開（公告）號： | CN104246000B | 公開（公告）日： | 2016-10-12 |
| 發明（設計）人： | E·杰森;E·A·F·斯班;R·莫斯托特;T·A·科帕 | 申請（專利權）人： | 塔塔鋼鐵艾默伊登有限責任公司 |
| 主分類號： | C23C2/06 | 分類號： | C23C2/06;C22C38/00;C22C38/02;C22C38/04;C22C38/06;C22C38/28;C22C38/38 |
| 代理公司： | 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所 11038 | 代理人： | 李英 |
| 地址： | 荷蘭艾*** | 國省代碼： | 荷蘭;NL |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 具有 si 含量 鋼帶材 | ||
【說明書】：
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C23 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制
C23C 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面擴散法，化學轉化或置換法的金屬材料表面處理；真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C2-00 用熔融態覆層材料且不影響形狀的熱浸鍍工藝；其所用的設備
C23C2-02 .待鍍材料的預處理，例如為了在選定的表面區域上鍍覆
C23C2-04 .以覆層材料為特征的
C23C2-14 .過量熔融覆層的除去；覆層厚度的控制或調節
C23C2-26 .后處理
C23C2-30 .熔劑或融態槽液上的覆蓋物
C23C 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面擴散法，化學轉化或置換法的金屬材料表面處理；真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C2-00 用熔融態覆層材料且不影響形狀的熱浸鍍工藝；其所用的設備
C23C2-02 .待鍍材料的預處理，例如為了在選定的表面區域上鍍覆
C23C2-04 .以覆層材料為特征的
C23C2-14 .過量熔融覆層的除去；覆層厚度的控制或調節
C23C2-26 .后處理
C23C2-30 .熔劑或融態槽液上的覆蓋物
