[發明專利]微光刻投射曝光設備的光學系統

有效

• 申請號: 201380020363.5
• 申請日: 2013-03-26
• 公開（公告）號: CN104246616B
• 公開（公告）日: 2017-04-26
• 發明（設計）人: I.薩恩杰;F.施勒塞納
• 申請（專利權）人: 卡爾蔡司SMT有限責任公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務所11105
• 代理人: 邱軍

1.一種在EUV中運行的微光刻投射曝光設備的光學系統，包含：

·至少一個偏振影響布置(100,200,...)，其具有第一反射表面(110,210,...)和第二反射表面(120,220,...)，其中，所述第一反射表面(110,210,...)和所述第二反射表面(120,220,...)相對于彼此以0°±10°的角度或90°±10°的角度布置；

·其中，在所述光學系統運行期間入射在所述第一反射表面(110,210,...)上的光與所述第一反射表面形成45°±5°的角度；及

·其中，所述偏振影響布置(100,200,...)可繞著旋轉軸旋轉，所述旋轉軸平行于在所述光學系統運行期間入射在所述第一反射表面(110,210,...)上的光的光傳播方向延伸。

2.如權利要求1所述的光學系統，其特征在于，在所述光學系統運行期間，由所述第二反射表面(120,220)反射的光線被反射到輸出方向上，所述輸出方向平行于入射在所述第一反射表面(110,210,...)上的光的輸入方向。

3.一種微光刻投射曝光設備的光學系統，包含：

·至少一個偏振影響布置(100,200,...)，其具有第一反射表面(110,210,...)和第二反射表面(120,220,...)，其中，在所述光學系統運行期間在所述第二反射表面(120,220,...)反射的光被反射為平行于入射在所述第一反射表面(110,210,...)上的光的輸入方向；

·其中，在所述光學系統運行期間，光以Θ＝Θ_B±5°的入射角入射在所述第一反射表面(110,210,...)上，其中，Θ_B代表所述第一反射表面(110,210,...)在所述光學系統的工作波長的布魯斯特角；及

·其中，所述偏振影響布置(100,200,...)可繞著旋轉軸旋轉，所述旋轉軸平行于在所述光學系統運行期間入射在所述第一反射表面(110,210,...)上的光的光傳播方向延伸。

4.如權利要求3所述的光學系統，其特征在于，所述光學系統是在EUV中運行的微光刻投射曝光設備的光學系統。

5.如權利要求1至4中任一項所述的光學系統，其特征在于，所述偏振影響布置(100,200,...)將在所述光學系統運行期間入射在所述第一反射表面(110,210,...)上的未偏振光轉換成從所述第二反射表面(120,220,...)發出的線偏振光。

6.如權利要求1至4中任一項所述的光學系統，其特征在于，所述光學系統另外包含指派給所述第二反射表面(520,620)的反射鏡元件(540,640)，所述反射鏡元件反射在所述光學系統運行期間在相關的所述第二反射表面(520,620)反射的光。

7.如權利要求6所述的光學系統，其特征在于，所述反射鏡元件(540,640)以關于至少一個傾翻軸可傾翻的方式布置。

8.如權利要求6所述的光學系統，其特征在于，所述反射鏡元件(540,640)具有大致環形幾何布局的光學活性表面。

9.如權利要求1至4中任一項所述的光學系統，其特征在于，所述第二反射表面(120,220,...)以關于至少一個傾翻軸可傾翻的方式布置。

10.如權利要求1至4中任一項所述的光學系統，其特征在于，所述光學系統包含由多個這種偏振影響布置構成的陣列(300,400,700)。

11.如權利要求10所述的光學系統，其特征在于，在所述陣列(300,400,700)中，在兩個互相垂直的空間方向之一上分別彼此相鄰的反射表面彼此平行延伸。

12.如權利要求10所述的光學系統，其特征在于，所述系統另外包含具有多個個別反射鏡(431,432,433,…)的反射鏡布置(430)，從所述第二反射表面(120,220,...)發出的光能夠經由所述多個個別反射鏡(431,432,433,…)反射。

13.如權利要求12所述的光學系統，其特征在于，所述個別反射鏡(431,432,433,…)可被彼此獨立地調整。