[發明專利]具有滴水邊緣構造的襯底載體在審
| 申請號: | 201380020056.7 | 申請日: | 2013-04-16 |
| 公開(公告)號: | CN104350590A | 公開(公告)日: | 2015-02-11 |
| 發明(設計)人: | 路茨·雷伯斯托克 | 申請(專利權)人: | 布魯克CCS有限公司;路茨·雷伯斯托克 |
| 主分類號: | H01L21/67 | 分類號: | H01L21/67;H01L21/673 |
| 代理公司: | 中科專利商標代理有限責任公司 11021 | 代理人: | 王鵬鑫 |
| 地址: | 德國巴登*** | 國省代碼: | 德國;DE |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 具有 滴水 邊緣 構造 襯底 載體 | ||
1.一種用于支撐一個或多個襯底的載體,所述載體包括:
至少一個第一結構;
至少一個第二結構,
其中,所述第二結構被固定到所述第一結構,
其中,所述第二結構部分地突出到由兩個相鄰襯底限定的空間,用于分離所述兩個相鄰襯底;
其中,所述第二結構被構造為使得液滴通過重力遠離所述襯底地排出。
2.如權利要求1所述的載體,其中,所述第二結構包括路徑使得所述液滴遠離所述襯底地行進。
3.如權利要求1所述的載體,其中,所述第二結構包括向著所述襯底的底部并且遠離所述襯底地傾斜的線或表面。
4.如權利要求1所述的載體,其中,所述第二結構在所述空間內不具有能夠捕捉所述液滴的點、水平線或水平面。
5.如權利要求1所述的載體,其中,所述第一結構被構造為使得所述液滴通過重力向著所述第一結構的一端排出。
6.一種用于支撐一個或多個襯底的載體,所述載體包括:
至少一個第一結構;
至少一個第二結構,
其中,所述第二結構被固定到所述第一結構,
其中,所述第二結構部分地突出到由兩個相鄰襯底限定的空間,用于分離所述兩個相鄰襯底;
其中,所述第二結構包括遠離所述襯底地傾斜的表面,使得液滴通過重力遠離所述空間地排出。
7.如權利要求6所述的載體,其中,所述第二結構的突出部包括角錐或圓錐形狀。
8.如權利要求7所述的載體,其中,所述角錐在最底部處包括棱。
9.如權利要求7所述的載體,其中,所述角錐或圓錐形狀包括從所述第一結構向上指向的頂點。
10.如權利要求6所述的載體,其中,所述第一結構包括板。
11.如權利要求6所述的載體,其中,所述第一結構包括桿。
12.如權利要求6所述的載體,其中,所述第一結構包括用金屬芯加強的塑料桿。
13.如權利要求12所述的載體,其中,所述桿的橫截面包括橢圓形狀。
14.如權利要求12所述的載體,其中,所述桿的橫截面包括準正方形形狀。
15.如權利要求6所述的載體,其中,所述第一結構包括傾斜角。
16.如權利要求6所述的載體,其中,所述第一結構包括L形狀,所述L形狀具有部分地覆蓋所述載體的側面的一側和部分地覆蓋所述載體的底部的一側。
17.如權利要求6所述的載體,其中,所述第一結構被布置在所述載體的側面處,以及所述載體還包括用于在所述載體的底部支撐所述襯底的底部結構。
18.一種方法,包括:
將一個或多個襯底供應到載體,
其中,所述載體包括結構,所述結構突出到由兩個相鄰襯底限定的空間,用于分離所述兩個相鄰襯底,
其中,所述結構包括遠離所述襯底地傾斜的表面;
利用液體使所述載體和所述襯底變濕,
其中,液滴通過重力遠離所述襯底地排出。
19.如權利要求18所述的方法,其中,利用液體使所述載體和所述襯底變濕的步驟包括從填充有所述液體的容器中抬起所述載體和所述襯底。
20.如權利要求18所述的方法,還包括:
對所述襯底進行干燥。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導體或固體器件或其部件的方法或設備
H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內或其上形成的多個固態組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





