[發明專利]用于形成薄膜的蒸鍍材料有效
| 申請號： | 201380017052.3 | 申請日： | 2013-03-21 |
| 公開（公告）號： | CN104271795A | 公開（公告）日： | 2015-01-07 |
| 發明（設計）人： | 堀江幸弘;小林健志 | 申請（專利權）人： | 佳能奧普特龍株式會社 |
| 主分類號： | C23C14/24 | 分類號： | C23C14/24;G02B1/11 |
| 代理公司： | 北京瑞盟知識產權代理有限公司 11300 | 代理人： | 劉昕 |
| 地址： | 日本國茨城*** | 國省代碼： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 用于 形成 薄膜 材料 | ||
【權利要求書】：
1.一種用于形成薄膜的蒸鍍材料，其特征在于，由含有鈦和鈮作為成分的、欠氧的金屬氧化物的熔融體形成。
2.根據權利要求1所述的用于形成薄膜的蒸鍍材料，其特征在于，在上述金屬氧化物中，金屬元素數與氧元素數的比率為4:7至5:8。
3.根據權利要求1所述的用于形成薄膜的蒸鍍材料，其特征在于，在上述金屬氧化物中，金屬元素數與氧元素數的比率為3:5。
4.根據權利要求2所述的用于形成薄膜的蒸鍍材料，其特征在于，在上述金屬氧化物中，鈮相對于鈦的摻雜量為2mol％以上16mol％以下。
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