[發明專利]氣體阻隔性膜及其制造方法、以及氣體阻隔性層疊體

有效

• 申請號: 201380014960.7
• 申請日: 2013-03-29
• 公開（公告）號: CN104185548B
• 公開（公告）日: 2017-08-01
• 發明（設計）人: 杉田健太郎;大川原千春;山內康嗣
• 申請（專利權）人: 三菱樹脂株式會社
• 主分類號: B32B9/00
• 分類號: B32B9/00;B32B27/30;C23C14/06;C23C16/42
• 代理公司: 北京集佳知識產權代理有限公司11227
• 代理人: 苗堃,金世煜

技術領域

本發明涉及氣體阻隔性膜及其制造方法、以及氣體阻隔性層疊體。

背景技術

將塑料膜作為基材并在其表面形成氧化硅等無機薄膜的氣體阻隔性塑料膜被廣泛利用于需要隔絕水蒸氣、氧等各種氣體的物品的包裝，例如用于防止食品、工業用品和醫藥品等的變質的包裝。

對于用于該目的的膜包裝材料，為了長期保存食品、藥品，期望對水蒸氣、氧的高氣體阻隔性，進行了大量的開發。

近年來，伴隨電子技術的迅速進步，液晶面板、有機EL面板、觸摸面板、電子紙張、太陽能電池等電子設備的需求不斷擴大。一般而言，這些電子設備是在玻璃基板上層疊有各種功能膜而成的，用于各種用途。

但是，由于玻璃的大比重和低韌性，存在設備重量大且易破裂的問題。因此，迫切期望基板的輕型化和強韌化，作為代替玻璃基板的材料，正在采用塑料片和膜。

對用于這些用途的塑料膜，除了要求非常嚴格的氧阻隔性和水蒸氣阻隔性之外，還要求特別嚴格的透明性(色調、光線透射、霧度等)和耐久性(不因熱處理、高溫高濕處理等而損害阻隔性和透明性)。特別是對于顯示器相關用途，作為顯示設備元件、發光設備元件等的保護受到關注，迫切期望滿足要求性能的氣體阻隔膜的開發。

如上所述，為了發揮面向包裝用途的高氣體阻隔性，對氣體阻隔膜進行了各種研究，例如作為提高氣體阻隔性的手段，提出了在無機薄膜面上涂布有水溶性高分子與無機粒子的混合物的氣體阻隔性膜(例如參照專利文獻1)等，但該提案是以阻隔性的提高或穩定性為目標，并沒有把重點置于提高透明性、抑制外觀不良、抑制背景反射、眩光等方面。

像這樣意圖提高阻隔性能且意圖提高以將顯示器等作為代表的光學用途為目標的透明性的方案很少。

現有技術文獻

專利文獻

專利文獻1:日本特開2008-36863號公報

發明內容

在專利文獻1中公開的技術中，舉出了利用使用了水性分散液的外涂層(樹脂層)來提高氣體阻隔性，但在采用工業的凹版涂布的實施中，會產生微小的縮孔(外觀不良)。

此外，專利文獻1在包裝用途中為沒有問題的水平，但根據用途(例如顯示器等)有時會產生外觀不良。另外，由于無法充分填補外涂層與蒸鍍膜之間的微小的凹凸、缺陷部，所以由外光的映入引起的眩光(背景反射)顯著。

本發明是在這樣的情況下進行的，目的在于提供霧度值低且透明性優異、不產生外觀不良、可抑制背景反射、并且水蒸氣阻隔性優異的氣體阻隔性膜及其制造方法，以及使用該氣體阻隔性膜制成的氣體阻隔性層疊體。

本發明人等為了實現上述目的經過反復深入的研究，結果發現通過下述本發明能夠實現該目的。即，本發明如下所述。

(1)一種氣體阻隔性膜，是在形成于基材膜的至少一面的無機層上設置含有聚乙烯醇和硅化合物的樹脂層而成的氣體阻隔性膜，基于JIS Z8722進行測定而得的b^*值為-1.0～1.0，a^*值為-1.0～1.0，

(2)如上述(1)所述的氣體阻隔性膜，其中，60℃、90％RH的水蒸氣透過率小于0.5g/m²/24h/atm，

(3)如上述(1)或(2)所述的氣體阻隔性膜，其中，上述無機層具有至少1層利用導入了氧的物理氣相蒸鍍法形成的無機層(PVD無機層)，在形成上述樹脂層后實施退火處理而成，

(4)如上述(1)～(3)中任一項所述的氣體阻隔性膜，其中，上述無機層由選自氧化硅、氮化硅、氧化氮化硅、氧化碳化硅、氧化碳化氮化硅、氧化鋁、氮化鋁、氧化氮化鋁、和氧化碳化鋁中的至少1種無機化合物構成，

(5)如上述(3)或(4)所述的氣體阻隔性膜，其中，上述無機層含有2層以上的上述PVD無機層，

(6)如上述(3)～(5)中任一項所述的氣體阻隔性膜，其中，上述無機層依次形成有PVD無機層、利用化學氣相蒸鍍法形成的無機層(CVD無機層)和PVD無機層，

(7)如上述(6)所述的氣體阻隔性膜，其中，上述CVD無機層中的碳含量低于20at.％且膜厚小于20nm，

(8)如上述(1)～(7)中任一項所述的氣體阻隔性膜，其中，在上述基材膜的至少一面設置有錨固涂層，

(9)如(1)～(8)中任一項所述的氣體阻隔性膜，其中，60℃、90％RH的水蒸氣透過率小于0.3g/m²/24h/atm，