[發明專利]層合膜及其制造方法

有效

• 申請號: 201380012083.X
• 申請日: 2013-03-07
• 公開（公告）號: CN104159746A
• 公開（公告）日: 2014-11-19
• 發明（設計）人: 阿部悠;尾形雅美;高田育
• 申請（專利權）人: 東麗株式會社
• 主分類號: B32B27/30
• 分類號: B32B27/30;B32B27/36
• 代理公司: 北京市金杜律師事務所 11256
• 代理人: 楊宏軍;王大方

技術領域

本發明涉及一種在聚酯膜的至少一側設有樹脂層的層合膜。更詳細而言，涉及一種透明性、層合高折射率硬涂層時的干涉斑的抑制(可視性)、與高折射率硬涂層的密合性、高溫高濕下的粘接性(濕熱粘接性)優異的層合膜。

背景技術

對于熱塑性樹脂膜、尤其是雙軸拉伸聚酯膜，由于具有機械性質、電性質、尺寸穩定性、透明性、耐藥品性等優異的性質，因此，在磁記錄材料、包裝材料等多種用途中被廣泛使用。

尤其近年來，聚酯膜被用于以觸摸面板、液晶顯示器面板(LCD)、等離子體顯示器面板(PDP)、有機場致發光(有機EL)等顯示構件用途為代表的各種光學用膜。

尤其是在這種用途中，使用在聚酯膜上層合有硬涂層的硬涂膜。另外，為了提高作為基材的聚酯膜與硬涂層的密合性，大多情況下設置具有易粘接性的涂布層作為它們的中間層。

對于硬涂膜，通常要求常溫下、以及高溫高濕下的與基材的粘接性、透明性、耐擦傷性、防污性等。另外，由于大多用于顯示器等的表面，因此，要求硬涂膜具有可視性、裝飾性。在作為基材的聚酯膜上層合硬涂層的情況下，硬涂層與作為基材的聚酯膜的折射率不同時會因界面反射而產生干涉斑，可視性惡化，因此，通常要求減少干涉斑。因此，即使在硬涂層上形成折射率調節層(AR層、折射率匹配層)、防污層后，仍存在圖像顯示裝置等的可視性惡化的情況或有損高檔感的情況。

尤其是近年來，隨著更進一步的大畫面化、高精細化、高檔化，特別是對熒光燈下的干涉斑的抑制、透明性、層間的密合性的要求水平越來越高。

另一方面，在硬涂層表面層合由高折射率層/低折射率層構成的折射率調節層時，通過使硬涂層高折射率化，可以從折射率調節層中省略高折射率層。其結果，在膜的制造工序中，可以在不損害功能的情況下大幅度地降低成本。由于近年來的強烈的低成本化要求，該技術受到關注。

[專利文獻]

在基材的聚酯膜上(例如折射率1.66)設置這種折射率高的硬涂層(例如折射率1.63)時，作為抑制干涉斑的方法，公開有如下方法(a)：形成易粘接層后，對基材膜進行壓延處理，以減小基材膜的局部的厚度偏差(專利文獻1)。

另外，公開有如下方法(b)：在基材膜的表層設置折射率低的層，設置具有硬涂層與基材膜的中間的折射率的易粘接層，利用干涉的抵消的方法(專利文獻2)。

進而，公開有如下方法(c)：在硬涂層與基材膜之間，設置具有它們的中間折射率(1.63～1.66)的高折射率易粘接層的方法(專利文獻3、4)；將高折射率的金屬氧化物粒子、和平均粒徑為200nm以上的粗大粒子并用，在涂布層與硬涂層的界面形成凹凸結構的方法(專利文獻5)。

專利文獻1：日本特開2001-71439號公報

專利文獻2：日本專利第4169548號公報

專利文獻3：日本專利第3632044號公報

專利文獻4：日本特開2004-54161號公報

專利文獻5：日本專利第4547644號

發明內容

在專利文獻1的方法中，雖然在硬涂層的折射率為1.60以下時較能抑制干涉斑，但在層合折射率為1.60以上且為1.65以下的硬涂層時，雖然密合性良好，但干涉斑顯著。

另外，在專利文獻2的方法中，基材的材料為聚萘二甲酸乙二醇酯(折射率為1.7以上)時應用受限等，通用性不足。

在專利文獻3、4中，分別提出了在水溶性聚酯樹脂中添加水溶性金屬螯合物或者金屬?；锘衔锏姆椒?專利文獻3)、添加高分子粘合劑和高折射率的金屬氧化物的方法(專利文獻4)。然而，必須大量添加納米等級的微粒，而在使用納米等級的微粒時，存在微粒因表面積急劇增大而發生凝聚、透明性下降的問題。另外，存在如果微粒凝聚則樹脂層中的面內折射率變得不均勻、干涉斑的抑制也下降的問題。進而，在樹脂層中，在微粒凝聚的部分，有助于與硬涂層的粘接性的粘合劑成分的比例相對下降，因此，存在密合性也下降的問題。

另外，在專利文獻5中，使用金屬氧化物粒子和平均粒徑200nm以上的粗大粒子，利用由平均粒徑200nm以上的粗大粒子引起的光散射，減少干涉斑。在這種情況下，由于使用光散射，因此，存在涂膜的霧度變大的問題。

因此，本發明的課題在于，解決上述的缺點，提供一種透明性、可視性、與基材或硬涂層的密合性優異的層合聚酯膜。

用于解決上述課題的本發明的層合膜具有如下任一種構成。即，