[發明專利]微鏡陣列有效
| 申請號: | 201380011206.8 | 申請日: | 2013-02-06 |
| 公開(公告)號: | CN104160304B | 公開(公告)日: | 2016-11-30 |
| 發明(設計)人: | 十二紀行;長藤昭子 | 申請(專利權)人: | 日東電工株式會社 |
| 主分類號: | G02B5/08 | 分類號: | G02B5/08;G02B5/136;G02B27/24 |
| 代理公司: | 北京林達劉知識產權代理事務所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 劉新宇;張會華 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 陣列 | ||
1.一種微鏡陣列,其由平板狀的基板和多個呈陣列狀形成于該基板的單位光學元件構成,用于使配置于上述基板的一個面側的被投影物的鏡像成像在與上述一個面相反的那一側的另一個面側的空間內,其特征在于,
上述各個單位光學元件形成為與上述基板的表面垂直的凸狀或凹狀,夾著該凸狀的單位光學元件或凹狀的單位光學元件的側面的角部的、相互正交的兩個側面形成為光反射面,這些光反射面分別形成為基板厚度方向的縱向長度相對于基板表面方向的橫向寬度之比為1.5以上的長方形形狀。
2.根據權利要求1所述的微鏡陣列,其特征在于,
上述單位光學元件的各個光反射面分別形成為基板厚度方向的縱向長度相對于基板表面方向的橫向寬度之比為1.5~5.0的長方形形狀。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于日東電工株式會社,未經日東電工株式會社許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201380011206.8/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。





