[發(fā)明專利]用于背光設(shè)備的發(fā)光設(shè)備和操作發(fā)光設(shè)備的方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201380006596.X | 申請日: | 2013-01-18 |
| 公開(公告)號: | CN104081266B | 公開(公告)日: | 2018-03-23 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | M·J·H·凱賽爾斯 | 申請(專利權(quán))人: | 飛利浦照明控股有限公司 |
| 主分類號: | G02F1/13357 | 分類號: | G02F1/13357 |
| 代理公司: | 北京市金杜律師事務(wù)所11256 | 代理人: | 王茂華,黃海鳴 |
| 地址: | 荷蘭艾恩*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 用于 背光 設(shè)備 發(fā)光 操作 方法 | ||
1.一種發(fā)光設(shè)備,包括:
光源陣列,其布置有交替的第一光源與第二光源,所述第一光源發(fā)射第一顏色的光并且所述第二光源發(fā)射第二顏色的光;
沿著所述光源陣列的邊緣布置的至少一個反射器;
其中鄰近所述至少一個反射器布置的至少一個光源與其在所述反射器中的虛像的組合強度為未鄰近所述至少一個反射器布置的相同顏色的光源的平均強度的80-120%;
其中表示為I邊緣的鄰近所述反射器而布置的所述至少一個光源中的每個光源的強度根據(jù)I邊緣=I中心/(1+R)獲得,
其中I中心是未鄰近所述至少一個反射器的相同顏色的所述光源的平均強度,并且R是所述反射器的反射率。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的發(fā)光設(shè)備,其中所述至少一個反射器基本上垂直于所述光源陣列布置。
3.根據(jù)上述權(quán)利要求中任一項所述的發(fā)光設(shè)備,其中所述光源陣列是光源的一維行。
4.根據(jù)權(quán)利要求1-2中任一項所述的發(fā)光設(shè)備,其中表示為d的所述至少一個反射器到鄰近所述反射器布置的所述至少一個光源的邊緣的距離是d<0.5p,
其中p是第一光源的中心與鄰近所述第一光源的第二光源的中心之間的距離。
5.根據(jù)權(quán)利要求1-2中任一項所述的發(fā)光設(shè)備,其中所述光源陣列是二維光源陣列。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的發(fā)光設(shè)備,包括:
反射率為R1的至少第一類型反射器,其沿著所述光源陣列的至少第一外側(cè)行光源延伸,以及
反射率為R2的至少第二類型反射器,其沿著所述光源陣列的至少第二外側(cè)行光源延伸,所述第二外側(cè)行光源沿著相對于所述第一外側(cè)行光源的另一個方向延伸,其中
在表示為I邊緣1的僅鄰近第一類型反射器的行中的光源的強度根據(jù)I邊緣1=I中心/(1+R1)獲得;
在表示為I邊緣2的僅鄰近第二類型反射器的行中的光源的強度根據(jù)I邊緣2=I中心/(1+R2)獲得;以及
表示為I角落的鄰近第一類型反射器與第二類型反射器的角落光源的強度根據(jù)I角落=I中心/(1+R1+R2+R1*R2)獲得,
其中I中心是不與任一反射器鄰近的相同顏色的光源的平均強度。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的發(fā)光設(shè)備,包括形成封閉區(qū)域的兩個所述第一類型的反射器以及兩個所述第二類型反射器,并且其中所述光源陣列布置在所述封閉區(qū)域內(nèi)。
8.根據(jù)權(quán)利要求1-2和6-7中任一項所述的發(fā)光設(shè)備,其中所述光源陣列中的光源是發(fā)光二極管(LED)。
9.根據(jù)權(quán)利要求1-2和6-7中任一項所述的發(fā)光設(shè)備,其中所述第一顏色與所述第二顏色分別是紫色(P)與綠色(G)。
10.根據(jù)權(quán)利要求1-2和6-7中任一項所述的發(fā)光設(shè)備,還包括用于測量鄰近至少一個反射器布置的至少一個光源的顏色和/或強度的至少一個傳感器。
11.根據(jù)權(quán)利要求1-2中任一項所述的發(fā)光設(shè)備,其中表示為d的所述至少一個反射器到鄰近所述反射器布置的所述至少一個光源的邊緣的距離是d<0.25p,
其中p是第一光源的中心與鄰近所述第一光源的第二光源的中心之間的距離。
12.根據(jù)權(quán)利要求1-2中任一項所述的發(fā)光設(shè)備,其中表示為d的所述至少一個反射器到鄰近所述反射器布置的所述至少一個光源的邊緣的距離是d<0.1p,
其中p是第一光源的中心與鄰近所述第一光源的第二光源的中心之間的距離。
13.一種邊緣發(fā)光或直接發(fā)光的背光設(shè)備,包括根據(jù)上述權(quán)利要求中任一項所述的發(fā)光設(shè)備,其中至少一個反射器是沿著所述光源陣列的邊緣布置的所述背光設(shè)備的至少一個內(nèi)壁。
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G02F 用于控制光的強度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào),上述器件或裝置的光學(xué)操作是通過改變器件或裝置的介質(zhì)的光學(xué)性質(zhì)來修改的;用于上述操作的技術(shù)或工藝;變頻;非線性光學(xué);光學(xué)
G02F1-00 控制來自獨立光源的光的強度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如,轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制;非線性光學(xué)
G02F1-01 .對強度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制,即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學(xué)
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導(dǎo)結(jié)構(gòu)中的
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