[實用新型]一種可鋼化的熱反射鍍膜玻璃

有效

• 申請號: 201320889315.7
• 申請日: 2013-12-31
• 公開（公告）號: CN203805427U
• 公開（公告）日: 2014-09-03
• 發明（設計）人: 黃穎;曾小綿;崔平生;梁瑞記
• 申請（專利權）人: 東莞南玻工程玻璃有限公司;中國南玻集團股份有限公司
• 主分類號: B32B17/06
• 分類號: B32B17/06;B32B33/00;C03C17/34;C03C17/36
• 代理公司: 廣州三環專利代理有限公司 44202
• 代理人: 張艷美;郝傳鑫

技術領域

本實用新型涉及鍍膜玻璃技術領域，尤其涉及一種可鋼化的熱反射鍍膜玻璃。?

背景技術

傳統的熱反射鍍膜玻璃的基本結構為玻璃基片以及鍍在玻璃基片表面的鍍膜層，鍍膜層自玻璃基片一側向外依次包括金屬或金屬氮化物層、氧化物層，其中氧化物層一般為氧化鈦層，其在高溫處理時性質不穩定，導致該種結構鍍膜玻璃的膜層耐熱性較差、膜層的韌性不夠高，而玻璃鋼化需要經過高溫處理，特別是在進行彎鋼化且玻璃基片較厚時，鋼化處理的高溫時間越長，對膜層的耐熱性、韌性以及膜應力要求越高，導致在制作該種結構的鍍膜玻璃時，一般只能先對玻璃基片進行鋼化，然后再對鋼化后的玻璃基片進行鍍膜；但是，先鋼化再鍍膜的制備工藝一方面不僅工作效率較低，而且造成了生產浪費，在玻璃鍍膜線上，玻璃基片規格較大，其生產效率較高，不易造成浪費；另一方面玻璃基片在彎鋼化后再鍍膜的制作較復雜、工藝繁瑣，生產效率低。為解決上述問題，現有的鍍膜玻璃均采用先鍍膜再鋼化的工藝，其對膜層要求較高，現急需一種可鋼化的熱反射鍍膜玻璃，能解決玻璃基片先鍍膜再鋼化后出現的膜層由于耐熱性和韌性較差以及膜應力過高，導致的鍍膜層開裂、氧化脫膜等不良缺陷。?

實用新型內容

針對上述現有技術的不足，本實用新型的目的在于提供了一種膜層耐熱性高、韌性高且膜層應力較低的可鋼化的熱反射鍍膜玻璃。?

為了實現上述目的，本實用新型的技術方案如下：?

一種可鋼化的熱反射鍍膜玻璃，包括玻璃基片以及鍍在所述玻璃基片表面的鍍膜層，所述鍍膜層自所述玻璃基片一側向外依次包括第一介質層、熱反射層和第二介質層，所述第一介質層和第二介質層均為氮化硅層，所述熱反射層為金屬和/或金屬氮化物層。?

較佳地，所述鍍膜層還包括位于所述玻璃基片和所述第一介質層之間的第一保護層，所述鍍膜層還包括介于所述熱反射層和所述第二介質層之間的第二保護層；其中所述第一保護層和所述第二保護層均為硅的氧化物層，所述硅的氧化物層為SiO₂層。?

較佳地，所述金屬層為鉻層、鎳層、鎳鉻合金層中的一種，所述金屬氮化物層為鉻氮化層和鎳氮化層中的一種。?

較佳地，所述第一介質層厚度優選范圍為10～50nm，第二介質層厚度優選范圍為20～70nm，所述熱反射層厚度優選范圍為5～30nm，所述第一保護層厚度優選范圍為5～20nm，所述第二保護層厚度優選范圍為5～20nm。?

本實用新型的鍍膜層中第一保護層為氧化硅層，鍍在玻璃上，與玻璃材質相近，能夠有效增強膜層與玻璃基片間的結合力；第一介質層是一層致密的氮化硅層，能夠有效提高膜層平整度和膜層之間的牢固程度，亦可以阻止玻璃的離子穿透，避免對熱反射層的傷害；第二介質層位于膜層最外層，一般要求具有高硬度，保證膜層具有良好的耐磨耐刮傷特性,上下兩層介質層對熱反射層的覆蓋作用，提高膜層耐熱性，增加鍍膜層穩定性，使該鍍膜玻璃既能平鋼化，也能彎鋼化，且鋼化后，膜層平滑，無膜層開裂、脫膜等缺陷。?

一種可鋼化的熱反射鍍膜玻璃，包括玻璃基片以及鍍在所述玻璃基片表面的鍍膜層；其特征在于：所述鍍膜層自所述玻璃基片一側向外依次包括第一介質層、第一熱反射層、第二介質層、第二熱反射層和第三介質層，其中第一介質層、第二介質層和第三介質層均為氮化硅層，所述第一熱反射層和所述第二熱反射層為金屬和/或金屬氮化物層。?

較佳地，所述金屬層為鉻層、鎳層、鎳鉻合金層中的一種，所述金屬氮化物層為鉻氮化層和鎳氮化層中的一種。?

較佳地，所述鍍膜層還包括位于所述玻璃基片和所述第一介質層之間的第一保護層，所述鍍膜層還包括介于所述第一熱反射層和所述第二介質層之間的第二保護層，所述鍍膜層還包括介于所述第二介質層和所述第二熱反射層之間的第三保護層，所述鍍膜層還包括介于所述第二熱反射層和所述第三介質層之間的第四保護層；其中所述第一保護層、所述第二保護層、所述第三保護層和所述第四保護層均為硅的氧化物層，所述硅的氧化物層為SiO₂層。?

較佳地，所述第一介質層厚度優選范圍為5～30nm，第二介質層厚度優選范圍為20～60nm，第三介質層厚度優選范圍為10～50nm，所述第一熱反射層厚度優選范圍為5～20nm，所述第二熱反射層厚度優選范圍為5～20nm，所述第一保護層厚度優選范圍為5～20nm，所述第二保護層厚度優選范圍為5～20nm，所述第三保護層厚度優選范圍為5～20nm，所述第四保護層厚度優選范圍為5～20nm。?