[實用新型]用于多反應腔化學氣相沉積設備的多腔雙密封圈系統有效
| 申請號: | 201320885191.5 | 申請日: | 2013-12-31 |
| 公開(公告)號: | CN203683659U | 公開(公告)日: | 2014-07-02 |
| 發明(設計)人: | 陳凱輝;金文彬 | 申請(專利權)人: | 中晟光電設備(上海)有限公司 |
| 主分類號: | C23C16/455 | 分類號: | C23C16/455;C30B25/02 |
| 代理公司: | 上海信好專利代理事務所(普通合伙) 31249 | 代理人: | 張靜潔;包姝晴 |
| 地址: | 201203 上海市浦東新區張*** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 用于 反應 化學 沉積 設備 多腔雙 密封圈 系統 | ||
1.一種用于多反應腔化學氣相沉積設備的多腔雙密封圈系統,其特征在于,
所述多腔雙密封圈系統中設置有多套雙密封圈系統與所述化學氣相沉積設備的多個反應腔(1)分別相對應;每套雙密封圈系統進一步包含:
雙密封圈,對反應腔(1)的腔體實現密封;
分支管路(7),與反應腔(1)的雙密封圈之間區域連通;
真空計(3),與分支管路(7)連通來監測雙密封圈之間區域的壓力;
限流墊片(5),設置在分支管路(7)上對分支管路(7)中的氣體流量進行限制;
所述多腔雙密封圈系統中還設有多套雙密封圈系統共用的雙密封圈真空泵(2、2’)、緩沖管(8)和主管路(9、91);各套雙密封圈系統的分支管路(7),分別經由緩沖管(8)與主管路(9、91)相連通,主管路(9、91)和雙密封圈真空泵(2、2’)相連接,所述雙密封圈真空泵(2、2’)用以對各個反應腔(1)的雙密封圈之間區域進行抽氣。
2.如權利要求1所述的多腔雙密封圈系統,其特征在于,
每個分支管路(7)上設置有控制該分支管路(7)與緩沖管(8)連通或隔斷的氣動閥門(4);
所述主管路(9、91)上設置有控制該主管路(9、91)與緩沖管(8)連通或隔斷的第一控制閥(6、61)。
3.如權利要求2所述的多腔雙密封圈系統,其特征在于,
每個分支管路(7)上的所述限流墊片(5),位于氣動閥門(4)的出口端處,或者位于氣動閥門(4)進口端處。?
4.如權利要求1所述的多腔雙密封圈系統,其特征在于,
所述反應腔(1)的雙密封圈之間區域的壓力小于該反應腔(1)內因導入反應氣體而具有的工藝壓力。
5.如權利要求1所述的多腔雙密封圈系統,其特征在于,
所述限流墊片(5)的孔徑為0.1mm-2mm。
6.如權利要求1所述的多腔雙密封圈系統,其特征在于,
所述多腔雙密封圈系統還包括與緩沖管(8)或主管路(9)相連通的壓力計(31)。
7.如權利要求1-6中任意一項所述的多腔雙密封圈系統,其特征在于,
所述多腔雙密封圈系統還包括多套雙密封圈系統共用的備泵(21)和備用主管路(92);備用主管路(92)與緩沖管(8)相連通,備用主管路(92)還和備泵(21)相連接,所述備泵(21)用以在雙密封圈真空泵(2’)停止工作時對各個反應腔(1)的雙密封圈之間區域進行抽氣。
8.如權利要求7所述的多腔雙密封圈系統,其特征在于,
所述備用主管路上設有控制該備用主管路(92)與緩沖管(8)連通或隔斷的第二控制閥(62),所述備泵(21)對各個反應腔(1)的雙密封圈之間區域進行抽氣時,備用主管路(92)上的第二控制閥(62)處于打開狀態,以使該備用主管路(92)與緩沖管(8)連通,同時第一控制閥61處于閉合狀態。
9.如權利要求7所述的多腔雙密封圈系統,其特征在于,
所述備泵(21)是化學氣相沉積設備中傳送腔(20)的真空泵,在該備泵(21)與傳送腔(20)之間的抽氣管道上設置有傳送腔抽氣閥(10),所述備泵(21)對各個反應腔(1)的雙密封圈之間區域進行抽氣時,傳送腔抽氣閥(10)處于閉合狀態,以阻止備泵(21)對傳送腔(20)抽氣。
10.如權利要求7所述的多腔雙密封圈系統,其特征在于,
所述多腔雙密封圈系統還包括與備用主管路(92)相連通的壓力計。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態化合物分解且表面材料的反應產物不留存于鍍層中的化學鍍覆,例如化學氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上,例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機材料為特征的





