[實用新型]用于晶體片鍍膜的真空鍍膜機

有效

• 申請號: 201320873393.8
• 申請日: 2013-12-28
• 公開（公告）號: CN203653684U
• 公開（公告）日: 2014-06-18
• 發明（設計）人: 郭軍平;溫海;竇會會;候應彬
• 申請（專利權）人: 陜西華星電子集團有限公司
• 主分類號: C23C14/24
• 分類號: C23C14/24
• 代理公司: 連云港潤知專利代理事務所 32255
• 代理人: 劉喜蓮

技術領域

本實用新型涉及一種蒸發式真空鍍膜機，特別是一種用于晶體片鍍膜的真空鍍膜機。

背景技術

目前，用于給晶體片鍍膜的真空鍍膜機，主要采用蒸發式的方法將需要鍍的材料直接放在目舟上加熱升華鍍至晶體片的表面形成膜層。但是現有的真空鍍膜機使用不方便，尤其在更換材料時，常要花費很長的時間進行清理，大大的降低了工作效率。

發明內容

本實用新型所要解決的技術問題是針對現有技術的不足，提供一種設計合理，使用簡單的用于晶體片鍍膜的真空鍍膜機。

本實用新型所要解決的技術問題是通過以下的技術方案來實現的，本實用新型是一種用于晶體片鍍膜的真空鍍膜機，包括設在工作臺上的底盤，在底盤上罩有罩蓋，罩蓋與設在工作臺上的提升裝置相連，罩蓋內形成真空腔室，在底盤的下方設有與真空腔室相連的抽真空機組，其特點是：在真空腔室內設有工件轉架機構，工件轉架機構的頂部設有晶體片鍍膜工位，在晶體片鍍膜工位周邊的工件轉架機構上設有晶體片夾具，在工件轉架機構內的底盤上方設有與晶體片鍍膜工位配合的蒸鍍機構，所述的蒸鍍機構包括并排設置的至少一個蒸發鉬舟，蒸發鉬舟通過蒸發夾具固定在底盤上，蒸發鉬舟包括固定在蒸發夾具上的兩個連接鉬桿，在兩個連接鉬桿之間設有水平設置的活動鉬舟。

本實用新型所要解決的技術問題還可以通過以下的技術方案來進一步實現，所述連接鉬桿的端部設有橫向設置的插槽，活動鉬舟的兩側插在插槽中。

本實用新型所要解決的技術問題還可以通過以下的技術方案來進一步實現，在蒸發鉬舟下方的底盤上設有殘渣收集板。

本實用新型所要解決的技術問題還可以通過以下的技術方案來進一步實現，在蒸發鉬舟與晶體片夾具之間設有旋轉擋板。

與現有技術相比，本實用新型真空鍍膜機的蒸發鉬舟設有活動鉬舟，這樣一個活動鉬舟固定只放一種蒸鍍材料，當前后需要蒸鍍材料不一致時，可以更換另一個活動鉬舟，這樣提高了蒸鍍效率，不需要將鉬舟進行清理再接著使用，杜絕了清理不干凈造成鍍膜質量不合格的現象。

附圖說明

圖1是本實用新型的主視結構示意圖。

圖2是圖1的A-A向結構示意圖。

具體實施方式

以下參照附圖，進一步描述本實用新型的具體技術方案，以便于本領域的技術人員進一步地理解本實用新型，而不構成對其權利的限制。

參照附圖1和圖2，一種用于晶體片鍍膜的真空鍍膜機，包括設在工作臺1上的底盤2，在底盤2上罩有罩蓋4，罩蓋4上可以設有觀察窗口，罩蓋4與設在工作臺1上的提升裝置8相連，提升裝置8為現有技術中常規使用能實現升降的提升裝置8，如氣缸或液壓油缸。通過提升裝置8可以將罩蓋4提起或罩在底盤2上。罩蓋4內形成真空腔室，在底盤2的下方設有與真空腔室相連的抽真空泵，用于對真空腔室進行抽真空。在真空腔室內設有工件轉架機構3，工件轉架機構3包括上下設置的圓環形底座和夾具支撐座，圓環形底座和夾具支撐座之間通過若干根立柱連接。工件轉架機構3的頂部設有晶體片鍍膜工位，在晶體片鍍膜工位周邊的工件轉架機構3上設有晶體片夾具5，在工件轉架機構3內的底盤2上方設有與晶體片鍍膜工位配合的蒸鍍機構7，所述的蒸鍍機構7包括并排設置的至少一個蒸發鉬舟，蒸發鉬舟通過蒸鍍夾10具固定在底盤2上，蒸發鉬舟包括固定在蒸鍍夾10具上的兩個連接鉬桿9，在兩個連接鉬桿9之間設有水平設置的活動鉬舟12。

蒸鍍時，將晶體片置于晶體片夾具5上，將蒸鍍材料如鎳或銀放置在蒸發鉬舟的活動鉬舟12上，將活動鉬舟12插入連接鉬桿9中；蓋上罩蓋4，啟動抽真空泵，在真空狀態下加熱放置蒸鍍材料的蒸發鉬舟，使蒸鍍材料升華并鍍至晶體片鍍膜工位的晶體片上。

所述連接鉬桿9的端部設有橫向設置的插槽，活動鉬舟12的兩側插在插槽中。這樣方便將活動鉬舟12取下進行更換。

在蒸發鉬舟下方的底盤2上設有殘渣收集板11，蒸發落下的殘渣落在殘渣收集板11上，每次更換殘渣收集板11，可以保持底盤2的干凈，減少工人的工作量。在蒸發鉬舟與晶體片夾具5之間設有旋轉擋板6。旋轉擋板6用來遮擋初期蒸發雜質，當過了初期蒸發，旋轉擋板旋轉離開，不擋蒸發鉬舟。