[實用新型]管式PECVD及其隔離保護裝置有效
| 申請號: | 201320869143.7 | 申請日: | 2013-12-26 |
| 公開(公告)號: | CN203625465U | 公開(公告)日: | 2014-06-04 |
| 發明(設計)人: | 康淼;許明金;陳綿寶;譚錚;陳敬梨 | 申請(專利權)人: | 海南英利新能源有限公司 |
| 主分類號: | C23C16/44 | 分類號: | C23C16/44 |
| 代理公司: | 北京集佳知識產權代理有限公司 11227 | 代理人: | 魏曉波 |
| 地址: | 570000 海南*** | 國省代碼: | 海南;66 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | pecvd 及其 隔離 保護裝置 | ||
技術領域
本實用新型涉及PECVD設備技術領域,特別涉及一種管式PECVD及其隔離保護裝置。
背景技術
PECVD(Plasma?Enhanced?Chemical?Vapor?Deposition,等離子體增強化學氣相沉積法)設備包括管式PECVD及板式PECVD。
在管式PECVD中,設置有多根碳化硅槳,多跟碳化硅槳彼此獨立沿豎直方向排列。
在其中一根碳化硅槳斷裂后,其碳化硅槳碎塊及石墨舟會受重力下落,導致下一根碳化硅槳被砸壞,造成較大經濟損失。
因此,如何降低經濟損失,是本技術領域人員亟待解決的問題。
實用新型內容
有鑒于此,本實用新型提供了一種隔離保護裝置,以降低經濟損失。本實用新型還包括一種管式PECVD。
為實現上述目的,本實用新型提供如下技術方案:
一種隔離保護裝置,包括:
支架;
用于設置于管式PECVD的碳化硅槳之間的隔離板;
與所述支架連接并支撐所述隔離板的支撐架。
優選地,上述隔離保護裝置中,所述支撐架包括與所述支架固定連接的固定部及設置于所述隔離板底部的緩沖支腳。
優選地,上述隔離保護裝置中,所述緩沖支腳包括支撐層及設置于所述支撐層與所述隔離板之間的緩沖裝置;
所述固定部與所述支撐層連接。
優選地,上述隔離保護裝置中,所述緩沖裝置為彈簧。
優選地,上述隔離保護裝置中,所述固定部與所述支架螺栓連接。
優選地,上述隔離保護裝置中,所述隔離板為不銹鋼隔離板。
優選地,上述隔離保護裝置中,所述隔離板為鏤空隔離板。
優選地,上述隔離保護裝置中,所述隔離板的鏤空格為正方格,所述正方格的邊長為2.5cm-3.5cm。
優選地,上述隔離保護裝置中,所述隔離板的數量為多個。
本實用新型還提供了一種管式PECVD,包括碳化硅槳,還包括如權上述任一項所述的隔離保護裝置。
從上述的技術方案可以看出,本實用新型提供的隔離保護裝置,通過使用本實用新型提供的隔離保護裝置,使隔離板設置于管式PECVD的碳化硅槳之間,在管式PECVD的其中一根碳化硅槳斷裂后,該層的碳化硅槳碎塊及其上的石墨舟落入該根碳化硅槳與下一根碳化硅槳之間的隔離板上,避免砸斷下一根碳化硅槳,進而減小了管式PECVD的損壞度,進而降低了經濟損失。
本實用新型還提供了一種管式PECVD,包括碳化硅槳,還包括如上述任一種的隔離保護裝置。由于上述隔離保護裝置具有上述技術效果,具有上述隔離保護裝置的管式PECVD也應具有同樣地技術效果,在此不在詳細的介紹。
附圖說明
為了更清楚地說明本實用新型實施例或現有技術中的技術方案,下面將對實施例或現有技術描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹,顯而易見地,下面描述中的附圖僅僅是本實用新型的一些實施例,對于本領域普通技術人員來講,在不付出創造性勞動的前提下,還可以根據這些附圖獲得其他的附圖。
圖1為本實用新型實施例提供的隔離保護裝置的結構示意圖。
其中,
隔離板—1,緩沖支腳—2,緩沖裝置—21,固定部—3,支架—4。
具體實施方式
本實用新型公開了一種隔離保護裝置,以降低經濟損失。本實用新型還包括一種管式PECVD。
下面將結合本實用新型實施例中的附圖,對本實用新型實施例中的技術方案進行清楚、完整地描述,顯然,所描述的實施例僅僅是本實用新型一部分實施例,而不是全部的實施例。基于本實用新型中的實施例,本領域普通技術人員在沒有做出創造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例,都屬于本實用新型保護的范圍。
請參考圖1,圖1為本實用新型實施例提供的隔離保護裝置的結構示意圖。
如圖1所示,本實用新型實施例提供的隔離保護裝置,包括:支架4;用于設置于管式PECVD的碳化硅槳之間的隔離板1;與支架4連接并支撐隔離板1的支撐架。
通過使用本實用新型實施例提供的隔離保護裝置,使隔離板1設置于管式PECVD的碳化硅槳之間,在管式PECVD的其中一根碳化硅槳斷裂后,該層的碳化硅槳碎塊及其上的石墨舟落入該根碳化硅槳與下一根碳化硅槳之間的隔離板1上,避免砸斷下一根碳化硅槳,進而減小了管式PECVD的損壞度,進而降低了經濟損失。
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C23C16-00 通過氣態化合物分解且表面材料的反應產物不留存于鍍層中的化學鍍覆,例如化學氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上,例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機材料為特征的





