[實用新型]一種鐳射加熱裝置

有效

• 申請號: 201320833567.8
• 申請日: 2013-12-17
• 公開（公告）號: CN203613219U
• 公開（公告）日: 2014-05-28
• 發明（設計）人: 黃運烘
• 申請（專利權）人: 昆山山森電子科技有限公司
• 主分類號: C21D1/09
• 分類號: C21D1/09
• 代理公司: 北京科億知識產權代理事務所(普通合伙) 11350
• 代理人: 湯東鳳

1.一種鐳射加熱裝置，其包括基板，所述基板上安裝有若干鐳射源；其特征在于：所述基板的一側面開設有凹槽，所述凹槽的兩個相對側壁為斜面，所述基板的另一相對側面包括兩個安裝面以及連接所述兩個安裝面的平面，所述兩個安裝面分別與所述凹槽的兩個斜面平行，所述兩個安裝面位于所述基板的相對兩側上且開設有安裝所述若干鐳射源的若干安裝通孔，所述兩個斜面為所述若干鐳射源的出光面；所述若干鐳射源布局成兩排鐳射源組，每排鐳射源組中的鐳射源呈直線排列，所述若干鐳射源分別安裝在所述兩個安裝面的相應安裝通孔上，且兩排鐳射源組中的鐳射源的延長線成一個預定固定角度錯開排列，使所述若干鐳射源的鐳射焦點均勻不間斷的交匯在成所述預定固定角度的直線上。

2.如權利要求1所述的鐳射加熱裝置，其特征在于：所述預定固定角度為40度固定角度。

3.如權利要求1所述的鐳射加熱裝置，其特征在于：所述鐳射加熱裝置還包括用來冷卻加熱裝置的冷卻系統。

4.如權利要求1所述的鐳射加熱裝置，其特征在于：所述兩個安裝面與所述平面呈臺階狀。

5.如權利要求4所述的鐳射加熱裝置，其特征在于：所述兩個安裝面相對所述平面呈對稱結構。