[實用新型]一種回流方式冷卻的高穩定性二氧化碳激光器有效
| 申請號: | 201320819413.3 | 申請日: | 2013-12-13 |
| 公開(公告)號: | CN203607669U | 公開(公告)日: | 2014-05-21 |
| 發明(設計)人: | 殷衛援 | 申請(專利權)人: | 成都微深科技有限公司 |
| 主分類號: | H01S3/223 | 分類號: | H01S3/223;H01S3/041 |
| 代理公司: | 四川力久律師事務所 51221 | 代理人: | 熊曉果;劉雪蓮 |
| 地址: | 611731 四川省成*** | 國省代碼: | 四川;51 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 回流 方式 冷卻 穩定性 二氧化碳 激光器 | ||
1.一種回流方式冷卻的高穩定性二氧化碳激光器,包括由外向內依次套設的儲氣管、水冷管和放電管,所述儲氣管兩端分別設置有反射鏡片和輸出鏡片,所述儲氣管上設置有與所述水冷管相接通的進水管和出水管,其特征在于,所述水冷管為包括有內層水冷管和外層水冷管的雙層結構,所述內層水冷管與所述外層水冷管接通,所述進水管和出水管分別與所述內層水冷管和外層水冷管接通,所述進水管與所述出水管設置在所述水冷管的同一端。
2.根據權利要求1所述的回流方式冷卻的高穩定性二氧化碳激光器,其特征在于,所述進水管與所述出水管沿所述儲氣管的徑向上的夾角≤90°。
3.根據權利要求2所述的回流方式冷卻的高穩定性二氧化碳激光器,其特征在于,所述進水管與所述出水管沿所述儲氣管的徑向上相互垂直。
4.根據權利要求1所述的回流方式冷卻的高穩定性二氧化碳激光器,其特征在于,所述內層水冷管與所述外層水冷管的接通位置為遠離所述進水管和出水管的端部。
5.根據權利要求1-4任意一項所述的回流方式冷卻的高穩定性二氧化碳激光器,其特征在于,所述內層水冷管一端與所述放電管密閉連接,另一端呈敞開的懸空狀,所述外層水冷管兩端分別與所述放電管兩端密封連接并將所述內層水冷管包覆在內。
6.根據權利要求1所述的回流方式冷卻的高穩定性二氧化碳激光器,其特征在于,所述外層水冷管與所述儲氣管之間間隔設置有若干第一支撐架,所述第一支撐架的內側與所述外層水冷管外壁相配合,外側與所述儲氣管內壁相配合,所述內層水冷管與所述外層水冷管之間間隔設置有若干第二支撐架,所述第二支撐架的內側與所述內層水冷管外壁相配合,外側與所述外層水冷管的內壁相配合,所述放電管與所述內層水冷管之間間隔設置有若干第三支撐架,所述第三支撐架內側與所述放電管外壁相配合,外側與所述內層水冷管內壁相配合。
7.根據權利要求6所述的回流方式冷卻的高穩定性二氧化碳激光器,其特征在于,所述第二支撐架和第三支撐架結構相同,并沿所述儲氣管的長度方向呈薄片狀結構。
8.根據權利要求5所述的回流方式冷卻的高穩定性二氧化碳激光器,其特征在于,所述第一支撐架為在沿所述儲氣管軸向上具有彈性,在沿所述儲氣管徑向上為剛性的支撐架。
9.根據權利要求8所述的回流方式冷卻的高穩定性二氧化碳激光器,其特征在于,所述第一支撐架為盤狀支撐架,包括支撐架本體,所述支撐架本體上設置有通孔,所述通孔與外層水冷管相配合,支撐架本體上間隔設置有若干通槽,相鄰所述通槽之間形成隔斷,沿所述通孔徑向的所述支撐架本體上至少設置有一條通槽。
10.根據權利要求9所述的回流方式冷卻的高穩定性二氧化碳激光器,其特征在于,所述通槽沿所述通孔的軸線圓周均布,所述通槽呈圓弧狀,并且與所述通孔同軸設置,所述通槽沿所述通孔的徑向呈層狀布置,相鄰兩層上的隔斷之間錯開布置。
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