[實用新型]應用于激光退火設備的吹掃裝置

有效

• 申請號: 201320818003.7
• 申請日: 2013-12-12
• 公開（公告）號: CN204135553U
• 公開（公告）日: 2015-02-04
• 發明（設計）人: 童宇鋒;胡榮星
• 申請（專利權）人: 上海華虹宏力半導體制造有限公司
• 主分類號: B23K26/142
• 分類號: B23K26/142
• 代理公司: 上海浦一知識產權代理有限公司 31211
• 代理人: 丁紀鐵

技術領域

本實用新型涉及集成電路制造領域，特別是涉及硅片背面激光退火領域，更具體地說，是涉及一種應用于激光退火設備的吹掃裝置。

背景技術

在IGBT（絕緣柵雙極型晶體管）等工藝中，需要對硅片背面進行激光退火的步驟，以實現對背面金屬離子的激活。由于激光退火是硅片背面朝下的，且此時的硅片基本已完成前道的工藝，因此部分金屬會暴在面對著工件臺的方向上，這些金屬離子可能通過空氣傳播，在工件臺上產生沉積。同時，空氣中的微量金屬離子也會隨著時間的增加而容易沉積到工件臺上。由于激光退火時是一個高溫狀態，且正面貼著工件臺，這些原來沉積在工件臺上的金屬離子容易在高溫作用下通過保護層進入到器件中，影響器件的性能，甚至引起功能的失效。

通過跑控片的方式可以帶走金屬離子，但是跑控片的方式既增加工藝成本也影響設備的有效利用率。通過使工件臺不斷地處于運動狀態，也可以使這些金屬離子不易沉積到工件臺上，但是工件臺不斷的處于運動狀態不利于設備本身。

實用新型內容

本實用新型要解決的技術問題是提供一種應用于激光退火設備的吹掃裝置，它可以有效控制金屬離子沉積到工件臺上。

為解決上述技術問題，本實用新型的應用于激光退火設備的吹掃裝置，設置在激光退火設備工件臺上方區域的周圍，包括一組以上氣流腔。

本實用新型通過在激光退火設備工件臺上方設置吹掃裝置，吹走工件臺上的金屬離子，同時阻止空氣中的金屬離子沉積到工件臺上，在不影響激光退火設備使用效率和效果的前提下，實現了對工件臺金屬離子的有效控制和改善，避免了金屬離子對器件性能的影響。

附圖說明

圖1是帶本實用新型的吹掃裝置的激光退火設備的工件臺的結構示意圖。

圖2～圖5是本實用新型的吹掃裝置的氣流腔結構示意圖。

具體實施方式

為對本實用新型的技術內容、特點與功效有更具體的了解，現結合附圖，詳述如下：

如圖1所示，本實用新型的應用于激光退火設備的吹掃裝置，設置在工件臺上方區域周圍，主要由一組以上可以形成一定氣流的氣流腔組成。吹掃裝置的位置高度和到工件臺的距離可調。吹掃裝置可以只包含一組單向氣流腔（見圖2），也可以包含兩組雙向氣流腔（見圖3），或包含多組多向氣流腔（見圖4）；也可以將氣流腔設計成環形（見圖5）。

吹掃裝置可以和激光退火設備設計成關聯裝置，即：當激光退火開始時，吹掃裝置自動關閉氣流，以避免由于局部高溫引起硅片上方的氣流波動，導致空氣折射變化，影響退火效果；當激光退火結束后，吹掃裝置自動開啟氣流，向工件臺吹純凈的氣體（比如空氣或N2等），并在工件臺上方形成一定速度的氣流（氣流風速和強度可調），將硅片中析出的金屬離子及時吹走，并使空氣中的微量金屬離子不易沉積在工件臺上，以保持工件臺不受金屬離子的污染。

表1有無使用吹掃裝置，對工件臺金屬離子數量的影響

從表1中的數據比較可以看出，在增加了本實用新型的吹掃裝置后（即加氣流），工件臺上金屬離子數量可以得到明顯的改善。