[實用新型]研磨墊有效
| 申請號： | 201320805113.X | 申請日： | 2013-12-09 |
| 公開（公告）號： | CN203622171U | 公開（公告）日： | 2014-06-04 |
| 發明（設計）人： | 唐強 | 申請（專利權）人： | 中芯國際集成電路制造（北京）有限公司 |
| 主分類號： | B24B37/26 | 分類號： | B24B37/26 |
| 代理公司： | 上海思微知識產權代理事務所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 屈蘅;李時云 |
| 地址： | 100176 北京市大興區*** | 國省代碼： | 北京;11 |
| 權利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 研磨 | ||
1.一種研磨墊，其特征在于，所述研磨墊包括研磨墊底層、位于所述研磨墊底層上并設有多個溝槽的研磨片表層和位于所述溝槽內的阻擋塊。
2.如權利要求1所述的研磨墊，其特征在于，所述阻擋塊的寬度小于所述溝槽的寬度。
3.如權利要求2所述的研磨墊，其特征在于，所述阻擋塊的寬度范圍是3mm～6mm。
4.如權利要求3所述的研磨墊，其特征在于，所述溝槽的寬度范圍是5mm～10mm。
5.如權利要求1所述的研磨墊，其特征在于，所述阻擋塊的高度小于所述溝槽的深度。
6.如權利要求5所述的研磨墊，其特征在于，所述阻擋塊的高度范圍是2mm～6mm。
7.如權利要求6所述的研磨墊，其特征在于，所述溝槽的高度范圍是3mm～8mm。
8.如權利要求1所述的研磨墊，其特征在于，所述溝槽的數量為20～40條。
9.如權利要求1所述的研磨墊，其特征在于，位于所述研磨墊內圈溝槽內的阻擋塊個數為2～30個。
10.如權利要求9所述的研磨墊，其特征在于，位于所述研磨墊外圈溝槽內的阻擋塊個數為30～100個。
11.如權利要求10所述的研磨墊，其特征在于，位于所述研磨墊內圈溝槽的阻擋塊密度小于位于所述研磨墊外圈溝槽的阻擋塊密度。
12.如權利要求11所述的研磨墊，其特征在于，位于所述研磨墊內圈溝槽的阻擋塊之間的距離范圍是6mm～8mm。
13.如權利要求11所述的研磨墊，其特征在于，位于所述研磨墊外圈溝槽的阻擋塊之間的距離范圍是3mm～5mm。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息，商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于中芯國際集成電路制造（北京）有限公司，未經中芯國際集成電路制造（北京）有限公司許可，擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作，請聯系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/201320805113.X/1.html，轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇：一種移動式太陽能照明拖車
- 下一篇：高粘度潤滑劑用潤滑泵
