[實(shí)用新型]一種圓片級(jí)硅通孔內(nèi)的封裝結(jié)構(gòu)及其應(yīng)用有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201320742912.7 | 申請(qǐng)日: | 2013-11-22 |
| 公開(公告)號(hào): | CN203589033U | 公開(公告)日: | 2014-05-07 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 陳棟;胡正勛;張黎;陳錦輝;賴志明 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 江陰長(zhǎng)電先進(jìn)封裝有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01L27/146 | 分類號(hào): | H01L27/146 |
| 代理公司: | 南京經(jīng)緯專利商標(biāo)代理有限公司 32200 | 代理人: | 彭英 |
| 地址: | 214429 江蘇省無(wú)錫市江*** | 國(guó)省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 圓片級(jí)硅通孔內(nèi) 封裝 結(jié)構(gòu) 及其 應(yīng)用 | ||
1.一種圓片級(jí)硅通孔內(nèi)的封裝結(jié)構(gòu),包括表層嵌置芯片電極(200)的硅基本體(100),在所述硅基本體(100)的芯片電極(200)下方設(shè)置硅通孔(110),所述硅通孔(110)的頂部為芯片電極(200)的下表面,所述硅通孔(110)的內(nèi)壁設(shè)置絕緣層(310),所述絕緣層(310)沿硅通孔(110)的內(nèi)壁向硅通孔(110)外延展,?
其特征在于:所述絕緣層(310)的表面設(shè)置結(jié)構(gòu)保護(hù)層(320),在所述硅通孔(110)內(nèi)的芯片電極(200)下方開設(shè)先后貫穿結(jié)構(gòu)保護(hù)層(320)、絕緣層(310)的微孔(301),在所述結(jié)構(gòu)保護(hù)層(320)上選擇性地設(shè)置金屬線路層(400),所述金屬線路層(400)通過(guò)微孔(301)與芯片電極(200)實(shí)現(xiàn)電氣連通,所述金屬線路層(400)的表面設(shè)置線路保護(hù)層(500)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的圓片級(jí)硅通孔內(nèi)的封裝結(jié)構(gòu),其特征在于:所述結(jié)構(gòu)保護(hù)層(320)沿絕緣層(310)分布,且其延展面積不小于絕緣層(310)的延展面積。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的圓片級(jí)硅通孔內(nèi)的封裝結(jié)構(gòu),其特征在于:所述微孔(301)的橫截面尺寸小于芯片電極(200)的橫截面尺寸。
4.根據(jù)權(quán)利要求1至3中任一種所述的圓片級(jí)硅通孔內(nèi)的封裝結(jié)構(gòu),其特征在于:所述微孔(301)在芯片電極(200)下方先后貫穿結(jié)構(gòu)保護(hù)層(320)、絕緣層(310)和芯片電極(200)。
5.根據(jù)權(quán)利要求1至3中任一種所述的圓片級(jí)硅通孔內(nèi)的封裝結(jié)構(gòu),其特征在于:在硅通孔(110)內(nèi),所述硅通孔(110)、結(jié)構(gòu)保護(hù)層(320)、絕緣層(310)、微孔(301)的對(duì)稱軸線分別與芯片電極(200)的縱向中心線重合。
6.一種圓片級(jí)圖像傳感器的封裝結(jié)構(gòu),包括表層嵌置若干個(gè)芯片電極(200)的硅基本體(100),所述硅基本體(100)的上表面的中央設(shè)置芯片感應(yīng)區(qū)(800),所述芯片感應(yīng)區(qū)(800)的周邊設(shè)置上下中空的隔離層(600),所述隔離層(600)上設(shè)置蓋板(700),所述蓋板(700)與隔離層(600)在硅基本體(100)的上表面形成容納芯片感應(yīng)區(qū)(800)的空腔(610),在所述硅基本體(100)的芯片電極(200)下方設(shè)置硅通孔(110),
其特征在于:所述硅通孔(110)采用如權(quán)利要求1至5中任一種圓片級(jí)硅通孔內(nèi)的封裝結(jié)構(gòu),所述絕緣層(310)、結(jié)構(gòu)保護(hù)層(320)和金屬線路層(400)依次延展至硅基本體(100)的下側(cè),所述絕緣層(310)與金屬線路層(400)之間為所述結(jié)構(gòu)保護(hù)層(320),所述金屬線路層(400)的終端設(shè)置線路保護(hù)層開口(511)。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的圓片級(jí)圖像傳感器的封裝結(jié)構(gòu),其特征在于:所述線路保護(hù)層開口(511)內(nèi)設(shè)置焊球(900)。
8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的圓片級(jí)圖像傳感器的封裝結(jié)構(gòu),其特征在于:所述蓋板(700)為玻璃或硅片。
9.根據(jù)權(quán)利要求6至8中任一種所述的圓片級(jí)圖像傳感器的封裝結(jié)構(gòu),其特征在于:所述隔離層(600)設(shè)置于芯片電極(200)的上方。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的圓片級(jí)圖像傳感器的封裝結(jié)構(gòu),其特征在于:所述微孔(301)在芯片電極(200)下方先后貫穿結(jié)構(gòu)保護(hù)層(320)、絕緣層(310)和芯片電極(200),直達(dá)隔離層(600)的內(nèi)部。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L27-00 由在一個(gè)共用襯底內(nèi)或其上形成的多個(gè)半導(dǎo)體或其他固態(tài)組件組成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共絕緣襯底上形成的無(wú)源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有專門適用于整流、振蕩、放大或切換的半導(dǎo)體組件并且至少有一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或者表面勢(shì)壘的;包括至少有一個(gè)躍變勢(shì)壘或者表面勢(shì)壘的無(wú)源集成電路單元的
H01L27-14 . 包括有對(duì)紅外輻射、光、較短波長(zhǎng)的電磁輻射或者微粒子輻射并且專門適用于把這樣的輻射能轉(zhuǎn)換為電能的,或適用于通過(guò)這樣的輻射控制電能的半導(dǎo)體組件的
H01L27-15 .包括專門適用于光發(fā)射并且包括至少有一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或者表面勢(shì)壘的半導(dǎo)體組件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料結(jié)點(diǎn)的熱電元件的;包括有熱磁組件的
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