[實用新型]洗凈設備有效
| 申請號: | 201320739198.6 | 申請日: | 2013-11-20 |
| 公開(公告)號: | CN203659818U | 公開(公告)日: | 2014-06-18 |
| 發明(設計)人: | 黃富源;張修凱;王璽鈞;王志成 | 申請(專利權)人: | 弘塑科技股份有限公司 |
| 主分類號: | H01L21/67 | 分類號: | H01L21/67 |
| 代理公司: | 隆天國際知識產權代理有限公司 72003 | 代理人: | 于寶慶 |
| 地址: | 中國臺*** | 國省代碼: | 中國臺灣;71 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 洗凈 設備 | ||
1.一種洗凈設備,用于去除一晶片堆迭結構上殘留的助焊劑,其中該晶片堆迭結構具有至少一位于所述晶片與基板之間的微小間隙,且所述微小間隙具有可讓液體流通的一流入側及一流出側,其特征在于,所述洗凈設備包括:
一清洗腔室;
一承載平臺,設置于所述清洗腔室內;
一供液裝置,設置于所述承載平臺的上方,用以將一化學清洗液施加于所述基板上,并使所述化學清洗液沿著所述基板從所述流入側進入所述微小間隙;及
一抽液裝置,設置于所述承載平臺的上方,用以驅使所述化學清洗液流通過所述微小間隙并自所述流出側排出,以完全帶走殘留于所述微小間隙內的助焊劑。
2.根據權利要求1的洗凈設備,其中所述供液裝置包括一輸液管及與該輸液管相連通的一噴嘴。
3.根據權利要求1的洗凈設備,其中所述抽液裝置包括一排液管及與該排液管相連通的一抽液座。
4.根據權利要求3的洗凈設備,其中所述抽液座的底端設有一滑移結構。
5.根據權利要求4的洗凈設備,其中所述滑移結構為一滾輪型滑動結構。
6.根據權利要求4的洗凈設備,其中所述滑移結構為一毛刷型滑動結構。
7.根據權利要求1的洗凈設備,還包括一加熱裝置,該加熱裝置設置于所述承載平臺的下方。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于弘塑科技股份有限公司,未經弘塑科技股份有限公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201320739198.6/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇:一種薄膜封裝系統
- 下一篇:一種干刻設備的電極和干刻設備
- 同類專利
- 專利分類
H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導體或固體器件或其部件的方法或設備
H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內或其上形成的多個固態組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





