[實(shí)用新型]常壓CVD薄膜連續(xù)生長(zhǎng)爐

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201320738011.0
• 申請(qǐng)日: 2013-11-21
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN203569183U
• 公開(kāi)（公告）日: 2014-04-30
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 張海林;滕玉朋;崔慧敏;王曉明
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 青島賽瑞達(dá)電子科技有限公司
• 主分類(lèi)號(hào): C23C16/44
• 分類(lèi)號(hào): C23C16/44;C23C16/54
• 代理公司: 山東清泰律師事務(wù)所 37222
• 代理人: 寧燕

1.一種常壓CVD薄膜連續(xù)生長(zhǎng)爐，其特征在于：包括工作腔體、多段加熱器、冷卻器、輸送機(jī)構(gòu)、氣柜、氣體彌散腔、機(jī)架；其中工作腔體固定在機(jī)架上，前后端設(shè)有開(kāi)口；工作腔體中前部外表面安裝多段加熱器，中后部外表面安裝冷卻器；輸送機(jī)構(gòu)位于工作腔體底部并從兩端開(kāi)口沿軸向貫穿整個(gè)腔體；氣體彌散腔安裝在腔體內(nèi)前部加熱段，為一個(gè)封閉殼體，其頂部設(shè)有進(jìn)氣管，底面上均勻分布若干小通孔；所述工作腔體兩端及加熱段與冷卻段之間設(shè)有風(fēng)簾盒，工作腔體兩端還設(shè)有排氣管，所述風(fēng)簾盒與工作腔體連接，為表面分布有若干小通孔的密閉殼體；氣柜上設(shè)有流量計(jì)，通過(guò)管路與氣體彌散腔及風(fēng)簾盒分別連接。

2.?根據(jù)權(quán)利要求1所述常壓CVD薄膜連續(xù)生長(zhǎng)爐，其特征在于：所述冷卻器為密閉腔體，兩端分別設(shè)有進(jìn)水口與出水口。

3.?根據(jù)權(quán)利要求2所述常壓CVD薄膜連續(xù)生長(zhǎng)爐，其特征在于：所述輸送機(jī)構(gòu)包括驅(qū)動(dòng)電機(jī)、鏈輪及鏈條傳動(dòng)機(jī)構(gòu)、主動(dòng)滾筒、輸送鏈帶、從動(dòng)滾筒、漲緊滾筒，其中電機(jī)與鏈輪鏈條傳動(dòng)機(jī)構(gòu)與主動(dòng)滾筒連接，主動(dòng)滾筒與從動(dòng)滾筒之間通過(guò)輸送鏈帶進(jìn)行連接，主動(dòng)滾筒與從動(dòng)滾筒之間還設(shè)置漲緊滾筒，漲緊滾筒與主動(dòng)滾筒及從動(dòng)滾筒之間也通過(guò)輸送鏈帶連接。

4.?根據(jù)權(quán)利要求3所述常壓CVD薄膜連續(xù)生長(zhǎng)爐，其特征在于：所述風(fēng)簾盒緊貼工作腔體上表面與之固定，二者接觸面上風(fēng)簾盒及工作腔體相對(duì)應(yīng)設(shè)有若干小孔。

5.?根據(jù)權(quán)利要求3所述常壓CVD薄膜連續(xù)生長(zhǎng)爐，其特征在于：所述風(fēng)簾盒為沿工作腔體內(nèi)壁周向分布的密閉腔體。

6.?根據(jù)權(quán)利要求4或5所述常壓CVD薄膜連續(xù)生長(zhǎng)爐，其特征在于：所述多段加熱器是圍繞工作腔體的掛板式加熱板或方筒式電阻絲或?yàn)殚_(kāi)合式上、下兩半U(xiǎn)型加熱器。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述常壓CVD薄膜連續(xù)生長(zhǎng)爐，其特征在于：所述工作腔體是整體型或分體型。

8.?根據(jù)權(quán)利要求7所述常壓CVD薄膜連續(xù)生長(zhǎng)爐，其特征在于：所述氣體彌散腔為一個(gè)通長(zhǎng)的大腔室或通過(guò)擋板分割成獨(dú)立小腔。

9.?根據(jù)權(quán)利要求8所述常壓CVD薄膜連續(xù)生長(zhǎng)爐，其特征在于：所述排氣管上設(shè)置燃燒自動(dòng)點(diǎn)火器。

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述常壓CVD薄膜連續(xù)生長(zhǎng)爐，其特征在于：所述輸送機(jī)構(gòu)中的輸送鏈帶是全寬度鏈帶或是同步驅(qū)動(dòng)的多組鏈條。