[實用新型]一種超精密電阻器有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201320663816.3 | 申請日: | 2013-10-25 |
| 公開(公告)號: | CN203617054U | 公開(公告)日: | 2014-05-28 |
| 發(fā)明(設計)人: | 陳英 | 申請(專利權)人: | 東莞市晴遠電子有限公司 |
| 主分類號: | H01C7/00 | 分類號: | H01C7/00 |
| 代理公司: | 北京乾誠五洲知識產(chǎn)權代理有限責任公司 11042 | 代理人: | 付曉青;楊玉榮 |
| 地址: | 523040 廣東省東莞*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 精密 電阻器 | ||
技術領域
本實用新型涉及電子產(chǎn)品技術領域,具體地說,涉及一種超精密電阻器。
背景技術
電阻器是電氣設備、電子產(chǎn)品中最常用的電子元件,電阻器的作用主要就是阻礙電流流過,應用于限流、分流、降壓、分壓、負載與電容配合作濾波器及阻匹配等。對于1Ω(歐姆)以上阻值的電阻,與標識阻值相比±1%以內阻值誤差的電阻可稱為精密電阻;對于1Ω以下阻值的電阻,一般能達到士5%精密度之內,就算做精密電阻范疇了,因為阻值基數(shù)很小,就算是5%的誤差,實際的阻值誤差已經(jīng)很小了。傳統(tǒng)的此類精密電阻一般為薄膜電阻,使用此材質的電阻才能滿足生產(chǎn)工藝要求,但其工藝復雜,技術要求較高,而且薄膜電阻在某些場合和產(chǎn)品上無法使用,限制了超精密電阻的應用。
實用新型內容
針對上述現(xiàn)有技術中的不足,本實用新型的目的在于提供一種超精密電阻器,以克服現(xiàn)有技術的缺陷。
為了達到上述目的,本實用新型提供了一種超精密電阻器,所述超精密電阻器包括基體、兩個電極帽和電阻膜,所述電阻膜包覆在所述基體的外表面,所述兩個電極帽分別套設在所述基體的兩端并與所述電阻膜電接觸,所述兩個電極帽的外側分別連接有導線,所述電阻膜的表面開設有溝槽,所述溝槽的寬度為15μm~20μm。
優(yōu)選地,所述溝槽在所述電阻膜的表面呈螺旋狀分布,最好,相鄰所述溝槽之間的間距相等。此外,所述溝槽的邊緣整齊,所述溝槽的底部干凈。
因此,本實用新型的超精密電阻器的精度可達±0.2%、±0.1%和±0.05%的級別,大幅提高了電阻器的精度,解決了傳統(tǒng)薄膜式電阻無法滿足某些特殊需要的問題,而且生產(chǎn)工藝簡便快捷,使超精密電阻器的應用更為廣泛。
附圖說明
圖1是本實用新型的超精密電阻器的結構示意圖。
附圖標記說明如下:
基體1、兩個電極帽2、導線3和電阻膜4。
具體實施方式
為了使審查員能夠進一步了解本發(fā)明的結構、特征及其他目的,現(xiàn)結合所附較佳實施例附以附圖詳細說明如下,本附圖所說明的實施例僅用于說明本發(fā)明的技術方案,并非限定本發(fā)明。
請參閱圖1,圖1是本實用新型的超精密電阻器的結構示意圖。如圖1所示,本實用新型的超精密電阻器包括基體1、電阻膜4和兩個電極帽2,這里的電阻膜1的材質可以是金屬膜或者其他適合材質。電阻膜4包覆在基體1的外表面,電阻膜4的材質可以是金屬膜或者其他適合材質。兩電極帽2分別套設在基體1的兩端并與電阻膜4電接觸,電極帽2的外側分別連接有導線3,電阻膜4的表面開設有溝槽10,且溝槽10的寬度為15μm~20μm。這樣,本實用新型的超精密電阻器電阻器的精度可達±0.2%、±0.1%以及±0.05%的級別。
特別地,所述溝槽在所述電阻膜的表面呈螺旋狀分布,最好,相鄰所述溝槽之間的間距相等,而且所述溝槽的邊緣整齊,所述溝槽的底部干凈。
因此,本實用新型的超精密電阻器的精度可達±0.2%、±0.1%和±0.05%的級別,大幅提高了電阻器的精度,解決了傳統(tǒng)薄膜式電阻無法滿足某些特殊需要的問題,而且生產(chǎn)工藝簡便快捷,使超精密電阻器的應用更為廣泛。
需要聲明的是,上述實用新型內容及具體實施方式意在證明本發(fā)明所提供技術方案的實際應用,不應解釋為對本發(fā)明保護范圍的限定。本領域技術人員在本發(fā)明的精神和原理內,當可作各種修改、等同替換或改進。本發(fā)明的保護范圍以所附權利要求書為準。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于東莞市晴遠電子有限公司,未經(jīng)東莞市晴遠電子有限公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權和技術合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201320663816.3/2.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。





