[實用新型]一種化學機械研磨墊有效
| 申請號： | 201320649958.4 | 申請日： | 2013-10-21 |
| 公開（公告）號： | CN203542340U | 公開（公告）日： | 2014-04-16 |
| 發明（設計）人： | 唐強;馬智勇 | 申請（專利權）人： | 中芯國際集成電路制造（北京）有限公司 |
| 主分類號： | B24B37/16 | 分類號： | B24B37/16 |
| 代理公司： | 上海光華專利事務所 31219 | 代理人： | 李儀萍 |
| 地址： | 100176 北京市大興*** | 國省代碼： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 化學 機械 研磨 | ||
1.一種化學機械研磨墊，其特征在于，所述化學機械研磨墊至少包括：
具有旋轉中心的研磨墊本體，其由底層和表層兩層構成；
設于所述表層內的、用于分布拋光液的若干溝槽，所述溝槽截面為若干以研磨墊本體的旋轉中心為圓心的同心圓環；位于研磨墊中部的溝槽的橫截面為直角U型；位于研磨墊邊緣的溝槽的橫截面為倒直角梯形。
2.根據權利要求1所述的化學機械研磨墊，其特征在于：所述位于研磨墊邊緣、橫截面為倒直角梯形的溝槽遠離旋轉中心的一側為斜邊。
3.根據權利要求1或2所述的化學機械研磨墊，其特征在于：所述位于研磨墊邊緣的倒直角梯形的深度h1小于位于研磨墊中部的直角U型溝槽的深度h2。
4.根據權利要求3所述的化學機械研磨墊，其特征在于：所述倒直角梯形溝槽的深度h1為3～8密耳，上寬d1為6～15密耳，下寬d2為5～10密耳，斜邊長L為5～12密耳。
5.根據權利要求3所述的化學機械研磨墊，其特征在于：所述直角U型溝槽的深度h1為5～10密耳，寬度d3為5～10密耳。
6.根據權利要求1或2所述的化學機械研磨墊，其特征在于：所述位于研磨墊邊緣的倒直角梯形的深度h1大于位于研磨墊中部的直角U型溝槽的深度h2。
7.根據權利要求6所述的化學機械研磨墊，其特征在于：所述倒直角梯形溝槽的深度h1為5～10密耳，上寬d1為6～15密耳，下寬d2為5～10密耳，斜邊長L為8～15密耳。
8.根據權利要求6所述的化學機械研磨墊，其特征在于：所述直角U型溝槽的深度h1為3～8密耳，寬度d3為5～10密耳。
9.根據權利要求1或2所述的化學機械研磨墊，其特征在于：所述位于研磨墊中部的直角U型溝槽為20～25條；所述位于研磨墊邊緣的倒直角梯形溝槽為3～5條。
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