[實(shí)用新型]抗蝕劑層的薄膜化裝置

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201320593542.5
• 申請(qǐng)日: 2013-09-25
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN203587965U
• 公開(kāi)（公告）日: 2014-05-07
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 豐田裕二;后閑寬彥;川合宣行;中川邦弘
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 三菱制紙株式會(huì)社
• 主分類號(hào): G03F7/30
• 分類號(hào): G03F7/30
• 代理公司: 中國(guó)專利代理(香港)有限公司 72001
• 代理人: 崔幼平;譚祐祥

技術(shù)領(lǐng)域

本實(shí)用新型涉及抗蝕劑層的薄膜化裝置。

背景技術(shù)

隨著電氣以及電子部件的小型化、輕量化、多功能化，對(duì)于以回路形成用的干膜抗蝕劑、焊料抗蝕劑為首的感光性樹(shù)脂（感光性材料），為了對(duì)應(yīng)于印刷配線板的高密度化而要求高分辨率。由這些感光性樹(shù)脂實(shí)現(xiàn)的圖像形成通過(guò)在將感光性樹(shù)脂曝光后顯影來(lái)進(jìn)行。

為了對(duì)應(yīng)于印刷配線板的小型化、高功能化，感光性樹(shù)脂有薄膜化的趨勢(shì)。在感光性樹(shù)脂中，有涂敷液體而使用的類型（液狀抗蝕劑）和干膜類型（干膜抗蝕劑）。最近，開(kāi)發(fā)了15μm以下的厚度的干膜抗蝕劑，其產(chǎn)品化正在推進(jìn)。但是，在這樣的薄的干膜抗蝕劑中，與以往的厚度的抗蝕劑相比，密接性及對(duì)凹凸的追隨性不充分，有發(fā)生剝離或空隙等的問(wèn)題。

此外，作為用干膜實(shí)現(xiàn)高分辨率化的方法，有在曝光前將感光性樹(shù)脂上具備的支承膜剝離、不夾著支承膜而曝光的方法。在此情況下，也有使光學(xué)工具（光掩模）直接密接在感光性樹(shù)脂上的情況。但是，由于感光性樹(shù)脂通常具有某種程度的粘附性，所以在使光學(xué)工具直接密接在感光性樹(shù)脂上而進(jìn)行曝光的情況下，密接的光學(xué)工具的除去變得困難。此外，由感光性樹(shù)脂將光學(xué)工具污染、或者因?qū)⒅С心冸x而感光性樹(shù)脂暴露在大氣中的氧中等，光感度容易下降。

為了改善上述的問(wèn)題，提出了在使用較厚的感光性樹(shù)脂的同時(shí)能夠?qū)崿F(xiàn)高分辨率的各種手段。例如，在通過(guò)減去法制作導(dǎo)電圖案的方法中，公開(kāi)了下述導(dǎo)電圖案的形成方法，其特征在于，在絕緣層的單面或兩面上設(shè)置金屬層而成的層疊基板上粘貼干膜抗蝕劑而形成抗蝕劑層后，進(jìn)行抗蝕劑層的薄膜化工序，接著，進(jìn)行回路圖案的曝光工序、顯影工序、蝕刻工序（例如參照專利文獻(xiàn)1）。此外，在形成焊料抗蝕劑圖案的方法中，開(kāi)了下述焊料抗蝕劑圖案的形成方法，其特征在于，在具有導(dǎo)電性圖案的回路基板上形成由焊料抗蝕劑構(gòu)成的抗蝕劑層后，進(jìn)行抗蝕劑層的薄膜化工序，接著進(jìn)行圖案曝光工序，再次進(jìn)行抗蝕劑層的薄膜化工序（例如參照專利文獻(xiàn)2及3）。

此外，在專利文獻(xiàn)4中，公開(kāi)了在抗蝕劑層的薄膜化工序中使用的薄膜化裝置。具體而言，公開(kāi)了一種抗蝕劑層的薄膜化裝置，至少包括四個(gè)處理單元：薄膜化處理單元，將形成有抗蝕劑層的基板浸漬（dip）到高濃度的堿性水溶液（薄膜化處理液）中而將抗蝕劑層的成分的膠束先不溶化，使其不易溶解擴(kuò)散到處理液中；膠束除去處理單元，通過(guò)膠束除去液噴霧而將膠束一下子溶解除去；水洗處理單元，將表面用水清洗；干燥處理單元，將水洗水除去。

對(duì)于在專利文獻(xiàn)4中公開(kāi)的薄膜化裝置的一部分，使用圖13所示的概略剖視圖進(jìn)行說(shuō)明。在薄膜化處理單元11中，從投入口7投入形成了抗蝕劑層的基板3?；?被運(yùn)送輥對(duì)4在浸漬在浸漬槽2中的薄膜化處理液1中的狀態(tài)下運(yùn)送，被進(jìn)行抗蝕劑層的薄膜化處理。然后，將基板3向膠束除去處理單元12運(yùn)送。在膠束除去處理單元12中，對(duì)于由運(yùn)送輥對(duì)4運(yùn)送來(lái)的基板3，通過(guò)膠束除去液供給管20從膠束除去液用噴嘴21供給膠束除去液噴霧22。將基板3上的抗蝕劑層在薄膜化處理單元11內(nèi)部的浸漬槽2中通過(guò)作為高濃度的堿性水溶液的薄膜化處理液1，使抗蝕劑層的成分的膠束對(duì)于薄膜化處理液1先不溶化。然后，通過(guò)用膠束除去液噴霧22將膠束除去，使抗蝕劑層薄膜化。在專利文獻(xiàn)4中，有“膠束除去通過(guò)膠束除去液噴霧一下子進(jìn)行是重要的，優(yōu)選的是在一定以上的水壓和流量的條件下迅速地進(jìn)行”的記述。

在圖13所示的抗蝕劑層的薄膜化裝置中，為從基板3穿過(guò)薄膜化處理單元11與膠束除去處理單元12的邊界部的運(yùn)送輥對(duì)6的地點(diǎn)開(kāi)始通過(guò)膠束除去液噴霧22進(jìn)行的膠束除去處理的構(gòu)造。并且，邊界部的運(yùn)送輥對(duì)6為暴露在膠束除去液噴霧22中的構(gòu)造。在通過(guò)膠束除去液噴霧22進(jìn)行膠束除去處理前，如果基板3上的抗蝕劑層與不均勻地附著在邊界部的運(yùn)送輥對(duì)6上的膠束除去液10接觸，則通過(guò)作為高濃度的堿性水溶液的薄膜化處理液1不溶化的抗蝕劑層的成分不均勻地成為可溶解的狀態(tài)。進(jìn)而，由于在成為可溶解的狀態(tài)的部位的抗蝕劑層中包含的低濃度的堿性水溶液使周圍的抗蝕劑層溶解，所以有在通過(guò)膠束除去液噴霧22進(jìn)行膠束除去處理前、膠束除去液10附著的部分的抗蝕劑層與周圍相比厚度變薄的情況。